【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种fe2o3纳米片阵列材料的制备方法及其作为气体敏感材料的应用。
技术介绍
1、fe2o3是一种环境友好的n型半导体金属氧化物,因其具有价格低廉、灵敏度高以及化学稳定性强等优点而广泛应用于气体传感器领域。虽然具有上述诸多优点,但研究发现以fe2o3为基础所构筑的气体传感器一般也会出现操作温度高、能耗大以及制作工艺繁琐等问题,这些问题都严重制约了该类传感器的进一步发展和应用。为了解决上述问题,研究人员开发了多种合成策略进一步提高fe2o3基敏感材料的性能,其中对材料微观形貌进行调控和改善是卓有成效的方法之一。虽然文献中已经报道了各种具有新奇微观形貌的fe2o3基敏感材料,但以二维纳米片为基本构筑单元的纳米片阵列材料却鲜有报道。众所周知,二维材料与其它形貌的材料相比会具有更大的比表面积,这对气体的吸附及传导十分有利。同时,由二维纳米片作为基本构筑单元穿插而成的纳米片阵列结构由于进一步增加了片层结构的连接性,会进一步增强材料的质传导能力。基于纳米片阵列材料在气体分子吸附及传导上的巨大优势,开发该类fe2o3基敏感材料将具有广阔
...【技术保护点】
1.一种Fe2O3纳米片阵列材料的制备方法如下:
2.根据权利要求1所述Fe2O3纳米片阵列的制备方法,其特征在于步骤(1)中将0.3600~0.6000 g K3[Fe(CN)6]溶于25~35 mL水中。
3.根据权利要求1所述Fe2O3纳米片阵列的制备方法,其特征在于步骤(1)中将0.0479~0.0879 g 1-十六烷基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐溶于25~35 mL水中。
4.根据权利要求1中所述Fe2O3纳米片阵列的制备方法,其特征在于步骤(2)中将陶瓷管150 ~180 ℃下反应6~10h。
5.根据权利要求
...【技术特征摘要】
1.一种fe2o3纳米片阵列材料的制备方法如下:
2.根据权利要求1所述fe2o3纳米片阵列的制备方法,其特征在于步骤(1)中将0.3600~0.6000 g k3[fe(cn)6]溶于25~35 ml水中。
3.根据权利要求1所述fe2o3纳米片阵列的制备方法,其特征在于步骤(1)中将0.0479~0.0879 g 1-十六烷基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐溶于25~35 ml水中。
<...【专利技术属性】
技术研发人员:王平,邵帅,付亚男,于海霞,江艳,赵立杰,
申请(专利权)人:齐齐哈尔大学,
类型:发明
国别省市:
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