【技术实现步骤摘要】
本申请属于显示，尤其涉及一种掩膜版组件及制备方法、蒸镀设备。
技术介绍
1、近眼显示产品(如vr/ar设备)对于屏幕的显示清晰度与亮度有超高要求。硅基oled具有超小尺寸、超高像素密度(ppi)和高亮度等优势，能够削弱“纱窗效应”，高度契合vr/ar等近眼显示新场景。
2、目前，玻璃基oled采用金属掩膜板(fmm)并通过湿法刻蚀制作掩膜开口，掩膜开口的制作精度较差，无法满足硅基oled的蒸镀工艺精度需求。
技术实现思路
1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请提出一种掩膜版组件及制备方法、蒸镀设备，能够提高掩膜开口精度，以满足显示基板的蒸镀工艺精度需求。
2、第一方面，本申请提供了一种掩膜版组件，包括掩膜版，所述掩膜版包括用于与显示基板的显示区对应设置的有效掩膜区；所述掩膜版包括：
3、有机材料层，包括位于所述有效掩膜区且间隔设置的多个掩膜开口，所述掩膜开口用于与所述显示区中的待蒸镀区对应设置；
4、磁性图案层，位于...
【技术保护点】
1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版包括用于与显示基板的显示区对应设置的有效掩膜区；所述掩膜版包括：
2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层还位于所述有效掩膜区外。
3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层围绕所述掩膜开口设置。
4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，多个所述掩膜开口呈多行多列分布，所述磁性图案层位于相邻两行和/或相邻两列的所述掩膜开口之间。
5.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层包括位于多个所述掩膜开口之间
...【技术特征摘要】
1.一种掩膜版组件，其特征在于，包括掩膜版，所述掩膜版包括用于与显示基板的显示区对应设置的有效掩膜区；所述掩膜版包括：
2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层还位于所述有效掩膜区外。
3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层围绕所述掩膜开口设置。
4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，多个所述掩膜开口呈多行多列分布，所述磁性图案层位于相邻两行和/或相邻两列的所述掩膜开口之间。
5.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述磁性图案层包括位于多个所述掩膜开口之间的多个图案；
6.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，相邻所述掩膜开口之间的间距与相邻所述掩膜开口之间的所述磁性图案层的宽度呈正相关关系。
7.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版还包括：...
【专利技术属性】
技术研发人员：毕娜，关新兴，曾琪皓，刘浩，白珊珊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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