【技术实现步骤摘要】
本申请涉及半导体测试,特别是涉及一种除水装置。
技术介绍
1、在进行功率半导体无功测试过程中,需模拟其在实际应用中所处的温度环境,而无功测试时功率半导体会产生大量的热量,远远超过了所需模拟的温度范围,这便需要对其进行降温处理,同时防止过热而损坏。相关技术中,通常会采用水冷散热的方式,这便导致功率半导体的底部残留水渍。为了保证测试过程中的安全性,就需要设置特定的装置来对功率半导体进行除水。
2、随着技术发展,功率半导体测试时的电流、电压会逐渐增大,导致产生的热量增加,对散热降温性能要求也逐渐提高。因此,为了满足较大的降温需求,就需要增大与水冷散热结构接触的接触面积,这就导致功率半导体上残留的水渍量增加,随之对除水装置的除水性能要求更高。
3、然而,现有常用的除水装置在除水后仍然会存在部分水渍,除水并不彻底,容易导致测试安全性受损。
技术实现思路
1、基于此,有必要提供一种除水装置,增大了除水范围,提高除水性能,有效保证测试安全性。
2、一种除水装置,包括载
...【技术保护点】
1.一种除水装置,其特征在于,所述除水装置(100)包括:
2.根据权利要求1所述的除水装置,其特征在于,所述第一除水板(20)对应第一风干窗口(2311),所述第一除水板(20)支撑于所述载具(10);
3.根据权利要求2所述的除水装置,其特征在于,所述除水凸起(21)包括:
4.根据权利要求3所述的除水装置,其特征在于,所述内环侧板(211)围设有流通孔(2102),且所述流通孔(2102)贯穿所述第一除水板(20)设置,所述内环侧板(211)的凸起高度小于所述外环侧板(212)的凸起高度,所述第一气槽(2101)连通所述流通孔
...【技术特征摘要】
1.一种除水装置,其特征在于,所述除水装置(100)包括:
2.根据权利要求1所述的除水装置,其特征在于,所述第一除水板(20)对应第一风干窗口(2311),所述第一除水板(20)支撑于所述载具(10);
3.根据权利要求2所述的除水装置,其特征在于,所述除水凸起(21)包括:
4.根据权利要求3所述的除水装置,其特征在于,所述内环侧板(211)围设有流通孔(2102),且所述流通孔(2102)贯穿所述第一除水板(20)设置,所述内环侧板(211)的凸起高度小于所述外环侧板(212)的凸起高度,所述第一气槽(2101)连通所述流通孔(2102)。
5.根据权利要求2所述的除水装置,其特征在于,所述第二除水板(30)对应第二风干窗口(2312);
6.根据权利要求5所述的除水装置,其特征在于,所述第二气槽(311)包括进气槽(3111)和出气槽(3112),所述进气槽(3111)和所述出气槽(3112)相对且间隔布置,并均连通于所述流通槽(301);
7.根据权利要求5所述的除水装置,其特征在于,所述第二除水板(30)朝向所述第一除水板(20)的一侧壁...
【专利技术属性】
技术研发人员:王伟群,许培金,宋鹏飞,董冰萧,
申请(专利权)人:深圳市愿力创科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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