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新型暗井盖制造技术

技术编号:4454121 阅读:381 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术涉及一种新型暗井盖。暗井盖由主体及条形孔组成,暗井盖的上部是平整的,暗井盖的下部顺条形孔方向中间薄,两端厚。其外形及受力原理与拱形桥面相似。有益效果是:结构简单,强度大增。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种新型暗井盖,由暗井盖(1)及条形孔(2)组成,其特征是:暗井盖(1)的上部是平整的,暗井盖(1)的下部顺条形孔(2)方向中间薄,两端厚。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:苗虎
申请(专利权)人:苗虎
类型:实用新型
国别省市:90[中国|成都]

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