【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光纤光栅，具体地，涉及保偏光纤光栅刻写系统及其方法。
技术介绍
1、高功率线偏振光纤激光器在功率光谱合成、相干探测、非线性频率变换以及引力波测量等方面具有广泛的应用前景。保偏光纤光栅作为高功率线偏振光纤激光器的核心器件，对其中心波长、光谱宽度、反射率等关键指标要求非常严格。
2、目前保偏光纤光栅采用常规的非保偏光纤光栅刻写系统来制备，工艺窗口很小，制备出来的保偏光栅往往难以满足高功率线偏振光纤激光器的要求。
3、保偏光纤光栅和非保偏光纤光栅制作难度上有很大差异，主要是受其特性影响。非保偏光纤内折射率分布均匀，结构简单，用其制备光纤光栅刻写一致性高，容易实现量化生产。而保偏光纤内部具有双折射特性，内部折射率分布不均匀，采用非保偏光纤光栅刻写系统刻写出的光纤光栅谱型易畸变，进一步地，谱型畸变导致中心波长、光谱宽度、反射率变化范围大，重复性差，工艺窗口窄，难以批量化生产，将其应用到线偏振光纤激光器中时，激光器非线性阈值低，难以实现稳定的高功率输出。如图2b所示，现有技术采用相同参数进行不同保偏光纤的重复刻...
【技术保护点】
1.一种保偏光纤光栅刻写系统，其特征在于，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测装置为第一显微成像系统，其用于通过显微成像检测所述检测端面的快轴位置和慢轴位置。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一显微成像系统还包括显微镜、一维调整架、平面反射镜和支撑结构，所述显微镜设置在所述一维调整架上，所述一维调整架设置在所述支撑结构上；其中
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测装置用于通过检测所述检测端面内部应力分布获得所述检测端面的快轴位置和慢轴位置。
5.根据权利要求4所...
【技术特征摘要】
1.一种保偏光纤光栅刻写系统，其特征在于，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测装置为第一显微成像系统，其用于通过显微成像检测所述检测端面的快轴位置和慢轴位置。
3.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述第一显微成像系统还包括显微镜、一维调整架、平面反射镜和支撑结构，所述显微镜设置在所述一维调整架上，所述一维调整架设置在所述支撑结构上；其中
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述检测装置用于通过检测所述检测端面内部应力分布获得所述检测端面的快轴位置和慢轴位置。
5.根据权利要求4所述的系统，其特征在于，所述检测装置包括拉曼分布光纤应力分析仪...
【专利技术属性】
技术研发人员：白云娜，刘广柏，李骁军，
申请(专利权)人：上海飞博激光科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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