【技术实现步骤摘要】
本申请涉及多晶硅生产技术，尤其涉及一种石墨头及多晶硅还原炉。
技术介绍
1、多晶硅是用于生产半导体和太阳能光伏产品的主要原料，目前用于生产多晶硅的主要方法有改良西门子法、硅烷法、流化床法等，其中改良西门子法和硅烷法在还原过程中都需要沉积载体，改良西门子法广泛使用的载体为硅芯，硅芯与电极之间通过石墨件来连接和卡紧。
2、相关技术中，在多晶硅生产过程中，可在硅芯上通上电源，使硅芯加热发红，直至表面温度达到一千摄氏度以上，同时通入含有硅原料的气体和还原气体，使原料气体在高温下发生还原反应，使原料气中的硅分子逐渐堆积在硅芯上，形成预定直径的硅棒。
3、在多晶硅还原炉中，硅芯通过石墨头连接在石墨座上，由于硅棒在生长过程中体积逐渐增加，硅棒与石墨头的连接处会形成薄弱区，增加了硅棒在还原炉中倾倒(倒炉)的风险。
技术实现思路
1、本申请提供一种石墨头及多晶硅还原炉，用以解决相关技术中硅棒生产时容易倒炉的问题。
2、一方面，本申请提供一种石墨头，应用于多晶硅还原炉，石墨...
【技术保护点】
1.一种石墨头，应用于多晶硅还原炉，其特征在于，所述石墨头的第一端与硅芯连接，所述石墨头的第二端与还原炉的石墨座连接；
2.根据权利要求1所述的石墨头，其特征在于，多个所述导引槽在所述第一锥形段的周向方向上间隔均匀地设置，相邻的两个所述导引槽之间的夹角在30°至60°之间。
3.根据权利要求1所述的石墨头，其特征在于，所述石墨头的第二端设置有第二锥形段，第二锥形段和第一锥形段之间设置有平直段，所述第二锥形段的外径在由石墨头的第二端至第一端的方向上逐渐增加。
4.根据权利要求3所述的石墨头，其特征在于，所述导引槽具有相对设置的第一端和...
【技术特征摘要】
1.一种石墨头，应用于多晶硅还原炉，其特征在于，所述石墨头的第一端与硅芯连接，所述石墨头的第二端与还原炉的石墨座连接；
2.根据权利要求1所述的石墨头，其特征在于，多个所述导引槽在所述第一锥形段的周向方向上间隔均匀地设置，相邻的两个所述导引槽之间的夹角在30°至60°之间。
3.根据权利要求1所述的石墨头，其特征在于，所述石墨头的第二端设置有第二锥形段，第二锥形段和第一锥形段之间设置有平直段，所述第二锥形段的外径在由石墨头的第二端至第一端的方向上逐渐增加。
4.根据权利要求3所述的石墨头，其特征在于，所述导引槽具有相对设置的第一端和第二端，所述导引槽的第一端靠近所述石墨头第一端的端面设置，所述导引槽的第二端延伸至所述第一锥形段与所述平直段的连接处，或者所述导引槽的第二端延伸至所述平直段上。
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【专利技术属性】
技术研发人员：李兴隆，张立，高俊海，
申请(专利权)人：青海丽豪清能股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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