一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法技术

本发明专利技术公开了一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法。该方法首先通过光刻技术在NAK80模具钢表面加工出光刻胶掩膜图案，然后通过调控湿法刻蚀液的成分和刻蚀时间，得到具有近金字塔型周期阵列微米结构的NAK80微模具。该微模具可用于塑料产品的微压印加工，在塑料表面构建与模具互补的倒金字塔框架结构。现有技术中这种金字塔形周期阵列结构一般通过光刻蚀硅模板制作，但单晶硅造价高，且质地很脆，机械稳定性不好。本发明专利技术专利的优点在于，通过光刻蚀制备的NAK80微模具不仅具备类似硅片湿法刻蚀得到的金字塔型阵列微结构，而且价格便宜，且机械稳定性高；同时湿法刻蚀步骤简单，刻蚀效率高，可批量加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微米结构加工领域，尤其涉及一种nak80模具钢表面近金字塔型微米结构及其光刻蚀方法。

技术介绍

1、塑料作为一种高分子材料由于具有较高的表面能，常常在塑料产品的界面处产生许多不利现象，比如酸奶沾盖、雨水粘附在雨伞上、风扇扇叶粘附灰尘，影响美观或不易打扫；冰箱冷冻室结冰，导致使用不便且耗电；还有塑料餐具相较于金属、陶瓷餐具更不容易清洗。

2、科学家们受自然界中荷叶、玫瑰花、水黾等超疏水能力的启发，发现其表面具有独特的微纳复合结构，因此通过构建微纳复合结构使材料表面具备超疏水的能力，但目前的超疏水表面存在结构易受损，耐久性差的瓶颈问题。

3、有研究表明，一种连续倒框架结构相比与传统的连续柱状微结构具备更好的耐磨性和耐久性。现有技术中这种倒框架结构是通过光刻蚀单晶硅制备得到金字塔型周期性阵列微结构，然后在基材表面微压印得到与模具互补的倒框架结构，主要是由于单晶硅原子排列密度不同，在湿法刻蚀中存在各向异性，因此刻蚀可以呈现出非常规整的周期性排列的金字塔型微结构。但单晶硅造价高，且质脆，特别是较大尺寸的硅模在压印时极易碎裂，因此本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求书1所述NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤S100中，光刻胶掩膜图案为周期排列的正方形，边长为60μm，相邻正方形的间距为10μm。

3.根据权利要求书1所述NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤S200中，NAK80模具钢片厚度为1-2mm。

4.根据权利要求书1所述NAK80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤S200中，光刻制备光刻胶掩膜采用的是AZ4620正...

【技术特征摘要】

1.一种nak80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求书1所述nak80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤s100中，光刻胶掩膜图案为周期排列的正方形，边长为60μm，相邻正方形的间距为10μm。

3.根据权利要求书1所述nak80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤s200中，nak80模具钢片厚度为1-2mm。

4.根据权利要求书1所述nak80模具钢表面近金字塔型微米结构的光刻蚀方法，其特征在于：步骤s200中...

【专利技术属性】
技术研发人员：高岩，赵映霞，
申请(专利权)人：华南理工大学，
类型：发明
国别省市：