N-芳基磺酰胺-和吡咯烷羧酸中间体,及它们在制备1,3-二羰基-1H-吡咯并[1,2-C]咪唑衍生物除草剂中**制造技术

＊＊＊ （１） 本发明专利技术涉及式（６和３）的化合物和中间体，它们用于制备式（１）的磺酰胺除草剂，包括其所有的几何和立体异构体及农业用盐：其中：Ｘ是Ｈ、Ｆ或Ｃｌ；Ｙ是Ｆ或Ｃｌ；Ｒ↑［１］是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤烷氧基烷基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］氰基烷基；Ｒ↑［２］是Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷基羰基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基；Ｒ↑［３］是Ｈ或ＯＨ；Ｒ↑［４］是Ｈ、Ｆ或Ｃｌ；和Ｒ↑［５］是Ｆ或Ｃｌ；其条件是，当Ｒ↑［３］是Ｈ时，则Ｒ↑［４］是Ｆ或Ｃｌ，而当Ｒ↑［３］是ＯＨ时，则Ｒ↑［４］是Ｈ。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
,及它们在制备1,3－二羰基－1h－吡咯并[1,2－c ...的制作方法
技术介绍
本专利技术涉及用于制备磺酰胺除草剂的化合物和方法。WO95/27698-A1公开了用于保护庄稼的磺酰胺除草剂。仍需要继续研制用于有效制备这些磺酰胺除草剂的化合物和方法专利技术简述本专利技术涉及式6和3的化合物和中间体，它们用于制备式1的磺酰胺除草剂，包括其所有的几何和立体异构体及农业用盐 其中X是H、F或Cl；Y是F或Cl；R1是C1-C3卤烷基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C6卤烷氧基烷基或C2-C6氰基烷基；R2是H、C1-C4烷基、C1-C4卤烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷基羰基或C2-C4烷氧基羰基；R3是H或OH；R4是H、F或Cl；和R5是F或Cl；其条件是，当R3是H时，则R4是F或Cl；而当R3是OH时，则R4是H。本专利技术还涉及制备式1之化合物的方法， 其包括卤化式2a的化合物 其中各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式2之化合物的方法， 其包括使式3的化合物成环 其中各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式3之化合物的方法， 其包括使式5的化合物 与式4的化合物反应 其中各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式6之化合物的方法， 其包括a)在碱存在下使式8的化合物 与式X1SO2R1的化合物反应，形成式7的化合物； b)在碱存在下任选地使其中R2是H的式7化合物与X1R2反应，形成其中R2不是H的式7化合物；以及c)用酸或碱水解式7的化合物，形成式6的化合物；其中X1是卤素、C2-C4烷基羰氧基、C1-C4烷氧基、苯氧基、氰基或咪唑基；而其余的各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式6a之化合物的方法， 其中步骤顺序如下选择A)步骤顺序包括a)还原式12的化合物 以形成式11的化合物，和 b)氯化式11的化合物，以形成式6a的化合物；其中各取代基如专利技术简述部分中首先描述的；以及B)步骤顺序包括a)还原式15的化合物 以形成式14的化合物，和 b)水解式14的化合物，以形成式6a的化合物；其中各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式1之化合物的方法， 其包括a)使式3的化合物成环 以形成式2a的化合物；和 b)卤化式2a的化合物，以形成式1的化合物，其中R3是OH，R4是H，而其余的各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。本专利技术还涉及制备式2之化合物的方法， 其包括a)使式5的化合物 与式4的化合物反应 以形成式3的化合物；和 b)使式3的化合物成环为式2的化合物 其中，各取代基如专利技术简述部分中首先描述的。专利技术详细描述本专利技术涉及用于制备式1之磺酰胺除草剂的化合物和中间体，包括其所有的几何和立体异构体及其农业用盐。本专利技术的化合物和方法如下所述。式1的化合物可通过其中R3是OH的步骤1-8的方法来制备。另外，式1的化合物也可以通过其中R4是F或Cl(其中R4是F或Cl的式2化合物与式1的化合物相同)的步骤1-7的方法来制备。本专利技术的其他实施方案是用于制备式6a之化合物的替代方法，其可通过步骤9-11的方法或者步骤12-16的方法来制备 其中X是H、F或Cl；Y是F或Cl；R1是C1-C3卤烷基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C6卤烷氧基烷基或C2-C6氰基烷基；R2是H、C1-C4烷基、C1-C4卤烷基、C3-C4烯基、C3-C4炔基、C2-C4烷氧基烷基、C2-C4烷基羰基或C2-C4烷氧基羰基；R3是H或OH；R4是H、F或Cl；R5是F或Cl；和X1是卤素、C2-C4烷基羰氧基、C1-C4烷氧基、苯氧基、氰基或咪唑基；其条件是，当R3是H时，则R4是F或Cl；而当R3是OH时，则R4是H。本专利技术中制备式6a之中间体的其他方法如下所示 其中X、X1和R1的定义如上。本专利技术中制备式6a之中间体的其他方法如下所示 其中R3是OC(＝O)CH3、卤素或C1-C4烷氧基；而X、X1和R1的定义如上。在上文中，单独或者在化合物如“卤烷基”中所用的术语“烷基”包括直链或支链烷基，如甲基、乙基、正丙基、异丙基、或者不同的丁基、戊基或己基异构体。“烯基”包括直链或支链烯基，如乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、以及不同的丁烯基、戊烯基和己烯基异构体。“烯基”还包括多烯基，如1，2-丙二烯基和2，4-己二烯基。“炔基”包括直链或支链的炔基，如乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、以及不同的丁炔基、戊炔基和己炔基异构体。“炔基”还包括由多个三键组成的炔基，如2，5-己二炔基。“烷氧基”包括例如甲氧基、乙氧基、正丙氧基、异丙氧基、以及不同的丁氧基、戊氧基和己氧基异构体。“烷氧基烷基”是指在烷基上有烷氧基取代。“烷氧基烷基”的例子包括CH3OCH2、CH3OCH2CH2、CH3CH2OCH2、CH3CH2CH2CH2OCH2和CH3CH2OCH2CH2。“烷硫基”包括直链或支链的烷硫基，如甲硫基、乙硫基、以及不同的丙硫基、丁硫基、戊硫基和己硫基异构体。“氰基烷基”是指被一个氰基取代的烷基。“氰基烷基”的例子包括NCCH2、CCCH2CH2和CH3CH(CN)CH2。单独或者在化合物如“卤烷基”中所用的术语“卤素”包括氟、氯、溴或碘。另外，当用于化合物如“卤烷基”时，所述烷基可被卤素原子部分或全部取代，而所述卤素原子可相同或不同。术语“卤烷基”包括F3C、ClCH2、CF3CH2和CF3CCl2。术语“卤烷氧基烷基”等的定义类似于术语“卤烷基”。“卤烷氧基烷基”的例子包括CF3OCH2、CCl3CH2OCH2、HCF2CH2CH2OCH2和CF3CH2OCH2CH2。取代基的总碳原子数用“Ci-Cj”表示，其中i和j是1-6的数。例如，C1-C3烷基磺酰基是指甲磺酰基至丙磺酰基；C2烷氧基烷基是指CH3OCH2；C3烷氧基烷基是指例如CH3CH2(OCH3)、CH3OCH2CH2或CH3CH2OCH2；而C4烷氧基烷基是指包含总共4个碳原子并被烷氧基取代的烷基的各种异构体，其例子包括CH3CH2CH2OCH2和CH3CH2OCH2CH2。“烷基羰基”的例子包括C(O)CH3、C(O)CH2CH2CH3和C(O)CH2(CH3)2。“烷氧基羰基”的例子包括CH3OC(＝O)、CH3CH2OC(＝O)、CH3CH2CH2OC(＝O)、(CH3)2CHOC(＝O)以及不同的丁氧基-或戊氧基羰基异构体。“烷基羰氧基”的例子包括OC(O)CH3、OC(O)CH2CH2CH3和OC(O)CH(CH3)2。当化合物被取代基取代，而取代基的下标表明该取代基的数目超过1时，所述取代基(当它们超过1时)可独立地选自于所定义的取代基组。另外，当下标表示一个范围时，例如(R)i-j，则取代基的数目可在i-j所包括的整数范围内选择。当一个基团所包含的取代基可以是氢时，例如R2，则当该取代基为氢时，其相当于所述基团未被取代。出于更好活性和/或易于合成的原因，优选的式3中间体是那些其中R2是H而R1是C1-C3卤烷基者。最优选的是其中R1是CH2Cl的中间体。出于更好活性和/或易于合成的原因，优选的式6中间体是那些其中R2是H而R1是C1-C3卤烷基者。最优选本文档来自技高网...

【技术保护点】
式３的化合物：＊＊＊ ３其中：Ｘ是Ｈ、Ｆ或Ｃｌ；Ｙ是Ｆ或Ｃｌ；Ｒ↑［１］是Ｃ↓［１］－Ｃ↓［３］卤烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］卤烷氧基烷基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［６］氰基烷基；Ｒ↑［２］ 是Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］烷基、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［４］卤烷基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］烯基、Ｃ↓［３］－Ｃ↓［４］炔基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基烷基、Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷基羰基或Ｃ↓［２］－Ｃ↓［４］烷氧基羰基；Ｒ↑［３］是Ｈ或 ＯＨ；和Ｒ↑［４］是Ｈ、Ｆ或Ｃｌ；其条件是，当Ｒ↑［３］是Ｈ时，则Ｒ↑［４］是Ｆ或Ｃｌ；而当Ｒ↑［３］是ＯＨ时，则Ｒ↑［４］是Ｈ。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：埃里克德居永泰勒，维亚采斯拉夫亚历山德罗维奇彼得罗夫，马蒂亚斯舍费尔，卡尔海因茨德劳茨，安妮福格特，克里斯托弗韦克贝克，斯蒂文H斯韦林根，巴尔瑞蒂卡米雷迪，
申请(专利权)人：杜邦公司，德古萨于尔斯股份公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]