【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳光学制造相关，更具体地，涉及一种基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造系统与方法。
技术介绍
1、ito氧化铟锡是一种重要的光电子材料，主要由氧化铟与氧化锡(质量比为9：1)组成。真空磁控溅射镀膜技术是ito导电玻璃的主要加工方法。该方法以钠钙基或硅硼基为玻璃加工原片，采用真空磁控溅射技术在玻璃表面镀上一层ito(氧化铟锡)膜。具有高透光率、高电导率、高机械强度和优良的防腐性能等特点，广泛应用于液晶显示器、太阳能电池板等领域。
2、为了满足多样化的需求，往往需要在ito薄膜表面进行图案化加工，产生各种功能结构图案，以实现特定的应用，例如制造触摸屏、oled玻璃面板、透明微电极、透明气体流量计等。作为最经典的微纳加工制造方法，可以使用光刻工艺来实现ito导电薄膜的图案化制造，然而光刻设备的购置和维护成本非常高，同时生产过程中的光刻胶、掩模版和其他材料成本也不容忽视，这增加了整个制造过程的成本。另一方面光刻工艺需要经过多个步骤，包括涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、刻蚀和去胶等，工艺流程的复杂性增加...
【技术保护点】
1.一种基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.一种基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造系统，其特征在于：所述系统包括激光直写加工光路及ITO电化学反应样品池，ITO电化学反应样品池包括垫片形成的圆筒状腔体，所述圆筒状腔体的两端采用ITO导电薄膜封装以形成收容腔，所述收容腔用于收容去离子水；两个ITO导电薄膜用于连接外接电压，以开始电化学反应，实现对ITO导电薄膜的改性；所述激光直写加工光路用于对改性后的ITO导电薄膜进行低功率连续激光直写加工，以实现ITO导电薄膜的图案化微纳结构
【技术特征摘要】
1.一种基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
2.一种基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造系统，其特征在于：所述系统包括激光直写加工光路及ito电化学反应样品池，ito电化学反应样品池包括垫片形成的圆筒状腔体，所述圆筒状腔体的两端采用ito导电薄膜封装以形成收容腔，所述收容腔用于收容去离子水；两个ito导电薄膜用于连接外接电压，以开始电化学反应，实现对ito导电薄膜的改性；所述激光直写加工光路用于对改性后的ito导电薄膜进行低功率连续激光直写加工，以实现ito导电薄膜的图案化微纳结构的制造。
3.如权利要求2所述的基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造系统，其特征在于：所述系统还包括测量光路，所述测量光路用于对照射在样品上的led照明光进行处理后使用相机实时采集成像结果，并反馈至电脑进行加工过程和制备结果的观察。
4.如权利要求3所述的基于电化学反应的氧化铟锡导电薄膜可重写激光加工微纳制造系统，其特征在于：所述测量光路包括led照明光源、加工样品、聚焦物镜、分束立方、第三反射镜、管镜及相机；led照明光源发出的光穿过加工样品后携带样品加工信息，经过聚焦物镜放大后透射穿过分束立方，经过第三反射镜改变成像光路方向，通过管镜成像到相机上进行观察。
5.如权利要求2所述的基于电化学反应的氧...
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