阵列基板及显示面板制造技术

本公开提供一种阵列基板及显示面板。该阵列基板包括衬底、薄膜晶体管和调节层。薄膜晶体管位于衬底上且包括有源层，有源层包括沟道区。调节层位于衬底和有源层之间，调节层具有多个凹凸结构，至少一个凹凸结构在衬底上的正投影落在沟道区在衬底上的正投影内。在上述结构的阵列基板中，由于TFT性能参数的非均匀性引起的Mura现象的问题得益改善。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及显示，具体地，涉及一种阵列基板及显示面板。

技术介绍

1、有机发光二极管(organic light emitting display，oled)按照驱动方式可以分为无源矩阵型oled(passive matrix oled，pmoled)和有源矩阵型oled(active matrixoled，amoled)两大类，即直接寻址和薄膜晶体管(thin film transistor，tft)矩阵寻址两类。其中，amoled因其高发光效能，通常用作高清晰度的大尺寸显示装置。

2、amoled显示装置属于电流驱动，而由于晶化工艺的局限性，背板tft的制程工艺不均，会使得不同位置处的tft的性能参数上具有非均匀性，这种非均匀性会转化为亮度差异，而被人眼感知，即mura现象，影响显示效果和用户体验感。

技术实现思路

1、本公开提供一种阵列基板及显示面板，通过在阵列基板上设置具有与薄膜晶体管的沟道区对应的凹凸结构，将缺陷引入到tft中，从而改善tft驱动电压的敏感性，从而降低不同区域的tft之间的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述调节层设置有多个凹槽，所述凹凸结构包括所述凹槽。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

6.根据权利要求1-5中任一项所述的阵列基板，其特征在于，

7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述薄膜晶体管...

【技术特征摘要】

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述调节层设置有多个凹槽，所述凹凸结构包括所述凹槽。

3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，

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【专利技术属性】
技术研发人员：张奥文，于东亮，范文志，蔡俊霞，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：