制造混合润湿性表面制造技术

技术编号:44252690 阅读:38 留言:0更新日期:2025-02-11 13:50
公开了一种用于制造具有代表油气藏的混合润湿性表面的微模型的方法。该方法包括:用光刻胶涂覆亲水性基底的顶表面;用光掩模覆盖光刻胶的顶部;将光刻胶的被覆盖的顶部暴露于UV光,该UV光改变光刻胶的与光掩模的图案相对应的区域的化学性质;去除光掩模;基于光刻胶的与光掩模的图案相对应的区域的化学性质去除该区域;在亲水性基底的顶部沉积疏水性薄膜;以及去除被薄膜覆盖的剩余光刻胶,使得亲水性基底的表面图案化,具有被疏水性薄膜覆盖的区域以及亲水性基底的未覆盖区域,从而在亲水性基底上产生代表微模型的混合润湿性表面。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍

1、多相流体流是具有不同相的流体的混合流。因此,包括水、油和气的流体是一种具有不同相的流体。对多孔介质中复杂流体输送和多相流的基本理解对于许多工业过程至关重要,这些工业过程包括跨不同学科的工程应用,例如生物医学工程、环境工程和石油工程。

2、微模型是一种新兴平台,可用于代表具有复杂结构形状和孔径的多孔介质。纸模型因其巨大的可扩展性以及在孔隙尺度上观察流体回收的基本机制和以高空间分辨率模拟实际岩石孔隙网络的能力而受到广泛的工业关注。

3、渗吸(imbibition)是将润湿相吸收到多孔岩石中的过程。润湿性是固体与一种液体或气体(被称为润湿相)而不是另一种液体或气体接触的倾向性。润湿相倾向于在固体表面上铺展,而多孔固体倾向于渗吸润湿相。岩石的润湿性取决于哪个相渗吸得更多。非润湿相会被润湿相取代。岩石可以是水润湿、油润湿或中间润湿的。岩石混合润湿性是指岩石表面同时具有水润湿和油润湿特性的一种表面润湿性。这可能是由于多种因素造成的,包括岩石的化学成分、天然有机化合物的存在以及流体与岩石表面的相互作用。

4、排驱(dr本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于制造具有代表油气藏的混合润湿性表面的微模型的方法,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过将光刻胶显影剂施加到所述光刻胶上来去除所述光刻胶的所述区域。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述光刻胶是正性的,并且所述光刻胶的暴露于UV光的区域被降解并且变得可溶于所述光刻胶显影剂,而所述光刻胶的被所述光掩模覆盖而避开所述UV光的区域保持未降解并且不可溶于所述光刻胶显影剂。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述光刻胶是负性的,并且所述光刻胶的暴露于UV光的区域被所述UV光增强并且变得不溶于光刻胶显影剂,而未暴露于所述UV光的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种用于制造具有代表油气藏的混合润湿性表面的微模型的方法,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过将光刻胶显影剂施加到所述光刻胶上来去除所述光刻胶的所述区域。

3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述光刻胶是正性的,并且所述光刻胶的暴露于uv光的区域被降解并且变得可溶于所述光刻胶显影剂,而所述光刻胶的被所述光掩模覆盖而避开所述uv光的区域保持未降解并且不可溶于所述光刻胶显影剂。

4.根据权利要求2所述的方法,其中,所述光刻胶是负性的,并且所述光刻胶的暴露于uv光的区域被所述uv光增强并且变得不溶于光刻胶显影剂,而未暴露于所述uv光的区域保持较弱并且不溶于所述光刻胶显影剂。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述光刻胶通过旋涂来施加。

6.根据权利要求1所述的方法,其中,所述薄膜通过原子层沉积(ald)、分子层沉积(mvd)、脉冲激光沉积(pld)、物理气相沉积(pvd)、化学气相沉积(cvd)、溅射或蒸发来沉积。

7.根据权利要求1所述的方法,其中,所述薄膜包括全氟癸基三氯硅烷(fdts)。

8.根据权利要求1所述的方法,其中,通...

【专利技术属性】
技术研发人员:D·K·赵A·A·阿洛米尔S·C·阿伊拉拉M·B·奥泰比A·A·优素福H·霍特伊特
申请(专利权)人:沙特阿拉伯石油公司
类型:发明
国别省市:

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