用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置及标定方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置及标定方法，其测试装置包括依次连接的标定机构、刺穿机构和测试分析机构；其利用刺穿机构破坏样品，获得精准度高和应用范围广的优势；其利用极小漏率漏孔和飞行时间质谱仪搭建测量分析机构，提高了装置测试灵敏度和不同气体成分分辨能力，扩展了装置可测量范围，其标定方法是将已知质量的气体通入测试装置中，用来验证结果准确性，得出测试数据的偏差系数。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于真空，更具体地说是一种用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置及标定方法。

技术介绍

1、随着真空技术的高速发展，密闭微小真空腔体已经逐渐应用于各个领域的产品和设施中，成为其不可或缺的先决条件之一。特别是在半导体行业领域，近年来，随着半导体集成电路的开发和应用，国家发展的科技尖端领域对半导体器件提出了更高的要求——极小体积、长期可靠性、长时间使用寿命等。而密闭微小真空腔体的优势可以充分满足上述需求，良好的真空环境可以控制电子元器件接触的气体成分及含量，同时可以隔绝热量，限定电子元器件的工作温度范围。故越来越多的密闭微小真空腔体被应用在半导体器件中。

2、密闭微小真空腔体内部气氛异常或某一成分含量过高均会对电子元器件的性能、寿命和可靠性产生强烈的影响，例如腔体内部水汽含量过高，可能会在电子元器件表现凝结成液体，造成电子元器件漏电，影响绝缘性能等。因此，如何高精度高准确度测出密闭腔体内部压力和气体成分，成为半导体电子元器件生产测试中必要检测手段之一。

3、当前已有的腔体内部气氛测试装置存在较多缺陷，包括：可检测样品单一，只能本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置，其特征在于：包括依次连接的标定机构(1)、刺穿机构(2)和测试分析机构(3)；所述标定机构(1)内设置有标定前级室(12)；所述标定前级室(12)具有三个法兰接口，分别是前接口A、前接口B和前接口C，所述前接口A安装第一全量程真空计(11)，所述前接口B通过第一角阀(13)和旋片泵(14)连接，所述前接口C连接标定室(15)的一端；所述标定室(15)内设置有相连接的第一球阀(151)和第二球阀(152)，标定室(15)的另一端连接刺穿机构(2)；所述刺穿机构(2)内设置有刺穿单元(22)；所述刺穿单元(22)具有四个法兰接口，分别是单元接口...

【技术特征摘要】

1.一种用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置，其特征在于：包括依次连接的标定机构(1)、刺穿机构(2)和测试分析机构(3)；所述标定机构(1)内设置有标定前级室(12)；所述标定前级室(12)具有三个法兰接口，分别是前接口a、前接口b和前接口c，所述前接口a安装第一全量程真空计(11)，所述前接口b通过第一角阀(13)和旋片泵(14)连接，所述前接口c连接标定室(15)的一端；所述标定室(15)内设置有相连接的第一球阀(151)和第二球阀(152)，标定室(15)的另一端连接刺穿机构(2)；所述刺穿机构(2)内设置有刺穿单元(22)；所述刺穿单元(22)具有四个法兰接口，分别是单元接口a、单元接口b、单元接口c和单元接口d，所述单元接口a安装第二全量程真空计(21)，所述单元接口b连接样品承载平台(24)，所述单元接口c连接标定室(15)，所述单元接口d连接测试分析机构(3)；所述测试分析机构(3)内设置有分析室(35)；所述分析室(35)具有五个法兰接口，分别是分析接口a、分析接口b、分析接口c、分析接口d和分析接口e，所述分析接口a连接冷阴极电离真空计(34)，所述分析接口b连接飞行时间质谱仪(36)，所述分析接口c通过第四角阀(37)和分子泵组相连，所述分析接口d与第二角阀(31)相连，所述分析接口e与第三角阀(33)相连；所述第二角阀(31)和极小漏率漏孔(32)相连。

2.根据权利要求1所述的用于密闭微小真空腔体的内部气氛测试装置，其特征在于：所述第一球阀(151)和第二球阀(152)之间通过不锈钢管进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：王旭迪，武炳鑫，林文豫，毕海林，曹青，张俊，吴俊，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：