【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于测量，具体来说涉及一种壁厚均匀度测量装置，该测量方法尤其适用于对内壁比较光滑的真空室腔体壁厚均匀度进行测量。
技术介绍
1、真空外波荡器是同步辐射光源及自由电子激光的关键设备，其配套有小孔径真空室，电子束沿着小孔径真空室通过波荡器产生的x射线在物理、化学、材料等诸多领域都有极为重要的应用。由此可见该小孔径真空室为束流提供通道，但其具有长度长、孔径小、内表面光洁度要求高等特点，并且真空室腔体厚度是否均匀，直接影响电子在真空室腔体内的束流状态，进而影响束流品质，最终导致设备性能下降。
2、图1和图2示出了一种典型的长且孔径狭小的真空室腔体的结构示意图及剖面图。如图1和图2所示，所述真空室腔体包括真空室上壁101、真空室下壁102、真空室侧壁103、和由真空室上壁101、真空室下壁102和真空室侧壁103共同限定的内部空间104。本示例真空室腔体是内部直径为8mm的圆。
3、对于真空室腔体，尽管可以使用一些厚度测量系统来测量真空室腔体上壁和下壁的整体厚度，但是真空室腔体在其内部空间处的内径为8mm，长度可...
【技术保护点】
1.一种壁厚均匀度测量装置，其特征在于，包括位移平台、相对于位移平台的位移部分固定安装的测试工装、设于测试工装下表面的电容式传感器和霍尔探头、布置于霍尔探头上表面的永磁铁磁柱、以及分体式磁珠。
2.根据权利要求1所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，所述测试工装平行设于待测片状材料的第一侧的表面上方，以使得电容式传感器和霍尔探头正对待测片状材料的第一侧，分体式磁珠贴设于待测片状材料的第二侧的表面。
3.根据权利要求2所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，所述电容式传感器用于测量电容式传感器到待测片状材料的第一侧表面的第二距离，且分体式磁珠与霍尔...
【技术特征摘要】
1.一种壁厚均匀度测量装置，其特征在于，包括位移平台、相对于位移平台的位移部分固定安装的测试工装、设于测试工装下表面的电容式传感器和霍尔探头、布置于霍尔探头上表面的永磁铁磁柱、以及分体式磁珠。
2.根据权利要求1所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，所述测试工装平行设于待测片状材料的第一侧的表面上方，以使得电容式传感器和霍尔探头正对待测片状材料的第一侧，分体式磁珠贴设于待测片状材料的第二侧的表面。
3.根据权利要求2所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，所述电容式传感器用于测量电容式传感器到待测片状材料的第一侧表面的第二距离，且分体式磁珠与霍尔探头彼此正对以通过霍尔探头测量霍尔探头到待测片状材料的第二侧表面的第一距离，第一距离和第二距离用于得到壁厚。
4.根据权利要求1所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，还包括与电容式传感器和霍尔探头均连接的信号采集处理系统，所述信号采集处理系统包括与电容式传感器通信连接的电容传感器控制器、与霍尔探头连接的电压采集设备、以及与电容传感器控制器和电压采集设备通信连接的工控机，所述工控机还与所述位移平台连接，以获取位移平台的位移部分的当前位置。
5.根据权利要求4所述的壁厚均匀度测量装置，其特征在于，所述电压采集设备设置为采集霍尔探头的霍尔感应电压，电容传...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨洁，张伟，朱亚，周蜀东，王鋆，俞成，文雍梅，王洪翠，
申请(专利权)人：中国科学院上海高等研究院，
类型：发明
国别省市：
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