【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防伪，具体而言，涉及一种光学防伪元件和光学防伪产品。
技术介绍
1、公众防伪特征面向最为广泛的使用者，需要有易于识别的特征，使普通公众在很短的时间内分辨出真伪。传统印刷工艺获得的印刷图文，由于油墨漫反射的性质，在各个角度观察时一般具有相同的性质，反射光强度、光谱一般保持不变。这种性质易于识别，但是变化较少，不能带来独特的效果，容易被不法分子复制仿造。光学防伪是通过特殊镀层、微纳结构、抽帧采样等多种手段，实现有别于传统印刷稳定、平面化的独特特征的方法。通过上述技术的组合应用，能够实现定向反射的金属特征、浮/沉于光学防伪元件平面的立体特征。同时，由于微纳结构和镀层的定向性，能够将光线的发射方向调制为特定方向，这也能够产生互动特征，即公众移动(前后倾斜、左右倾斜和左右旋转)光学防伪元件时，不同位置/图案的光线被观察到，各个位置的图像连续起来，形成动感特征。这种动感特征能够很好地引导观察者的注意力，将公众的目光不由自主地带到光学防伪元件的位置，引起观察者的兴趣，并进一步观察动感特征，辨别真伪。
2、当动感特征由微纳结构...
【技术保护点】
1.一种光学防伪元件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个所述变化周期内，所述主要变化至少包括位于所述变化周期的开始的所述反射结构(21)的所述倾角最大，位于所述变化周期的结束的所述反射结构(21)的所述倾角最小。
3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个变化周期内，所述主要变化至少包括位于所述变化周期的开始的所述反射结构(21)的所述倾角最小，位于所述变化周期的结束的所述反射结构(21)的所述倾角最大。
4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个变化周期内，所述...
【技术特征摘要】
1.一种光学防伪元件，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个所述变化周期内，所述主要变化至少包括位于所述变化周期的开始的所述反射结构(21)的所述倾角最大，位于所述变化周期的结束的所述反射结构(21)的所述倾角最小。
3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个变化周期内，所述主要变化至少包括位于所述变化周期的开始的所述反射结构(21)的所述倾角最小，位于所述变化周期的结束的所述反射结构(21)的所述倾角最大。
4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个变化周期内，所述主要变化至少包括从所述变化周期的开始至所述变化周期的结束，所述反射结构(21)的所述倾角呈先减小后增大的变化。
5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，在一个所述变化周期内，所述次级变化至少包括所有所述反射结构(21)中的至少一部分的所述倾角具有至少一次增大和减小的交替变化过程。
6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其特征在于，所述主要变化和所述次级变化具有标准变化设计值，所述倾角在所述标准变化设计值的80％-120％的范围内随机变化。
7.根据权利要求6所述的光学防伪元件，其特征在于，所述倾角在所述标准变化设计值的90％-110％的范围内随机变化。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述反射结构(21)沿垂直于所述基材(10)的表面的法线旋转的角度形成转角。
9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其特征在于，所述微结构层(20)的所有所述反射结构(21)中的至少一部分形成调节结构，所述调节结构中的所述反射结构(21)的所述转角呈随机变化或伪随机变化。
10.根据权利要求9所述的光学防伪元件，其特征在于，所述调节结构中的所述反射结构(21)的数量为n并分为m组，同组的所述反射结构(21)的转角相同，不同组的所述反射结构(21)的所述转角呈随机变化或伪随机变化，其中m<n且每组中的反射结构(21)的数量不小于1。
11.根据权利要求1至7中任一项所述的光学防伪元件，其特征在于，所述旋转轴(40)和所述特征直线(30)一一对应设置，...
【专利技术属性】
技术研发人员：张巍巍，孙凯，
申请(专利权)人：中钞特种防伪科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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