【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及烹饪，尤其是涉及一种烹饪锅的自清洁方法、装置及电子设备、存储介质。
技术介绍
1、现有的烹饪锅通常连接补水机构，以在烹饪过程中补水。补水机构通常包括补水水箱、补水管路以及补水水阀，通过打开所述补水水阀以导通补水管路与烹饪锅之间的连接管路。
2、为了解决上述技术问题，现有技术中的烹饪设备连接外部的补水水箱，通过开启连接管路中补水水泵以向烹饪设备进行补水。
3、然而，在烹饪设备工作过程中控制机构持续运行发热，需要额外的散热降温机构对控制机构进行散热降温，导致部件数量、种类繁多、生产成本高。
技术实现思路
1、有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种烹饪锅的自清洁方法、装置及电子设备、存储介质。
2、第一方面，本专利技术实施例提供了一种烹饪锅的自清洁方法，该方法应用于烹饪锅中的控制机构，烹饪锅上设置有补水机构，补水机构包括补水箱和补水水阀，补水箱与烹饪锅内烹饪空间管路连接，管路上设置有补水水阀；述烹饪锅内还设置有搅拌机构，搅拌机构和补水水阀与控制机
【技术保护点】
1.一种烹饪锅的自清洁方法，其特征在于，所述方法应用于烹饪锅中的控制机构，所述烹饪锅上设置有补水机构，所述补水机构包括补水箱和补水水阀，所述补水箱与烹饪锅内烹饪空间管路连接，所述管路上设置有所述补水水阀；所述烹饪锅内还设置有搅拌机构，所述搅拌机构和所述补水水阀与所述控制机构连接；
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述烹饪锅内还设有压力传感器，用于检测烹饪空间内的介质重量，所述压力传感器与所述控制机构连接；
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，判断所述第一压力值是否小于或等于预设的第一压力阈值的步骤之后，还包括：
4....
【技术特征摘要】
1.一种烹饪锅的自清洁方法，其特征在于，所述方法应用于烹饪锅中的控制机构，所述烹饪锅上设置有补水机构，所述补水机构包括补水箱和补水水阀，所述补水箱与烹饪锅内烹饪空间管路连接，所述管路上设置有所述补水水阀；所述烹饪锅内还设置有搅拌机构，所述搅拌机构和所述补水水阀与所述控制机构连接；
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述烹饪锅内还设有压力传感器，用于检测烹饪空间内的介质重量，所述压力传感器与所述控制机构连接；
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，判断所述第一压力值是否小于或等于预设的第一压力阈值的步骤之后，还包括：
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述烹饪锅与所述补水水阀之间的连接管路上还设置有水流量感应器，所述水流量感应器与所述控制机构连接；
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，控制所述补水水阀关闭，并，启动所述搅拌机构，以对所述烹饪空间自清洁的步骤之后，还包括：
6.根据权利要求1所述的方法，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：余福强，王帆，李信合，任富佳，
申请(专利权)人：杭州老板电器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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