一种电子产品电镀工艺制造技术

技术编号:43992880 阅读:33 留言:0更新日期:2025-01-10 20:13
本发明专利技术属于材料处理技术领域,具体涉及一种电子产品电镀工艺,包括下述步骤:步骤一、以碱清洗液进行清洗,并以8%稀硫酸活化表面。步骤二、将产品整体镀金,需要镀金的地方镀金层厚度与不需要镀金的地方镀金层厚度比为1.5:1‑2:1;步骤三、利用刻蚀液刻蚀基板表面薄金层,本发明专利技术与现有技术相比具有下列优点:利用了厚薄整体镀金的方式,然后利用刻蚀液刻蚀基板表面薄金层,留下需要位置的镀金层。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于材料处理,具体涉及一种电子产品电镀工艺


技术介绍

1、一些手机、电脑中的电子元器件会用到镀金工艺,产品的正反两面在不同位置需要镀金,一般的镀金流程是依次对正面和反面两个部位进行点镀,但是这里存在的问题是在对正面电镀区域电镀完后,由于反面电镀区域一直浸泡在电镀液中,会产生置换金,如果反面继续点镀则会有金脱皮的情况出现,造成结合力不良的问题。


技术实现思路

1、针对上述存在的技术问题,本专利技术的目的是:解决正反面双面镀金容易出现金脱皮,结合力不良的技术问题。

2、本专利技术的技术解决方案是这样实现的:一种电子产品电镀工艺,包括下述步骤:

3、步骤一、以碱清洗液进行清洗,并以8%稀硫酸活化表面。

4、步骤二、将产品整体镀金,需要镀金的地方镀金层厚度与不需要镀金的地方镀金层厚度比为1.5:1-2:1;

5、步骤三、利用刻蚀液刻蚀基板表面薄金层。

6、本专利技术与现有技术相比具有下列优点:利用了厚薄整体镀金的方式,然后利用刻蚀液刻蚀基板表面薄本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

2.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

3.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

4.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

5.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

【技术特征摘要】

1.一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

2.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,其特征在于,包括下述步骤:

3.根据权利要求1所述的一种电子产品电镀工艺,...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈帮喜吴宝成
申请(专利权)人:常德市坤腾电子科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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