一种防撞机构及涂布设备制造技术

技术编号:43985780 阅读:39 留言:0更新日期:2025-01-10 20:08
本技术涉及一种防撞机构及涂布设备。该防撞机构包括:旋转架,可转动地连接在涂布模头上;及探测弦,张紧设置在旋转架上,探测弦包含位于旋转架底部的探测段;在涂布模头对基材进行涂布时,探测段能够与基材表面的凸起接触,并带动旋转架转动;及传感器,相对涂布模头固定设置,用于检测旋转架的转动。如此,在涂布模头沿行进方向移动并进行涂布的过程中,若传感器没有检测到旋转架旋转,则表明基材表面不存在凸起,因此涂布模头可继续进行涂布;若传感器检测到旋转架相对涂布模头发生转动时,则表明基材表面存在凸起,此时需要停止涂布,避免产生涂布不良,并避免对涂布模头造成损伤。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及涂布设备,特别是涉及一种防撞机构及涂布设备


技术介绍

1、新型太阳能电池领域中,钙钛矿太阳能电池近年来的迅速发展受到了科研界和工业界的广泛重视。在钙钛矿太阳能电池制备的过程中需要在基材(例如玻璃)上涂布钙钛矿浆液,由于涂布的幅面大、涂层薄、浆料粘度低,涂布工艺的难度较大,因此对涂布装置的精度要求极高。

2、现有技术中,请参见图1,涂布模头200用于进行平面涂布,该涂布模头200的底部具有唇口201,该唇口201处开设有一长条形的涂布狭缝。涂布模头200内的浆料从该涂布狭缝输出,并涂布在基材100上。在实际进行涂布时,涂布模头200距离基材100的距离仅50μm至100μm之间。若基材100稍有变形、翘曲或表面有异物导致基材100表面存在凸起a,涂布模头200行进时就会触碰到该凸起a,严重影响涂布质量,甚至对涂布模头200造成损伤。


技术实现思路

1、基于此,有必要针对现有技术中在实际进行涂布时,模头距离基材的距离仅50μm至100μm之间。若基材稍有变形、翘曲或表面有异物导致基材表面存本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种防撞机构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的防撞机构,其特征在于,所述旋转架(10)包括转轴(11)及支杆组件,所述转轴(11)绕自身轴线可旋转地连接在所述涂布模头(200)上,所述支杆组件设置在所述转轴(11)上,所述探测弦(20)张紧设置在所述支杆组件上。

3.根据权利要求2所述的防撞机构,其特征在于,所述支杆组件包括两个支杆(12),两个所述支杆(12)均连接在所述转轴(11)上,且沿所述转轴(11)的轴向间隔布设,每一所述支杆(12)具有位于所述转轴(11)下方的第一端(121);

4.根据权利要求3所述的防撞机构,其特征在于...

【技术特征摘要】

1.一种防撞机构,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的防撞机构,其特征在于,所述旋转架(10)包括转轴(11)及支杆组件,所述转轴(11)绕自身轴线可旋转地连接在所述涂布模头(200)上,所述支杆组件设置在所述转轴(11)上,所述探测弦(20)张紧设置在所述支杆组件上。

3.根据权利要求2所述的防撞机构,其特征在于,所述支杆组件包括两个支杆(12),两个所述支杆(12)均连接在所述转轴(11)上,且沿所述转轴(11)的轴向间隔布设,每一所述支杆(12)具有位于所述转轴(11)下方的第一端(121);

4.根据权利要求3所述的防撞机构,其特征在于,每一所述支杆(12)还具有位于所述转轴(11)上方的第二端(123),所述防撞机构还包括平衡弦(22),所述平衡弦(22)的端部均固定连接在所述转轴(11)上,且绕经两个所述第二端(123);

5.根据权利要求4所述的防撞机构,其特征在于,所述支杆组件还包括连杆(13),所述连杆(13)的一端连接在所述第二端(123)上,所述连杆(13)的另一端沿背离所述转轴(11)的方向纵长延伸,所述传感器(30)用于检测所述连杆(13)背离所述转轴(11)的一端的转动。

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【专利技术属性】
技术研发人员:请求不公布姓名
申请(专利权)人:江苏氢导智能装备有限公司
类型:新型
国别省市:

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