基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，去除保持部的污染。基板处理装置具备利用处理液处理基板的处理部。所述处理部具有将所述基板保持为水平的保持部。所述保持部包括与所述基板的下表面中央接触的第一保持部。所述处理部具有使所述第一保持部以铅垂的旋转轴为中心旋转的旋转驱动部。所述基板处理装置具备：带电部，其使与所述基板分开准备的第二基板带电；以及控制部，其进行使通过所述带电部而带电的所述第二基板与所述第一保持部接触的控制。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种基板处理装置和基板处理方法。

技术介绍

1、专利文献1所记载的基板处理装置具备两个吸附垫、液接受杯、旋转保持盘、壳体、第一清洗部以及第二清洗部。两个吸附垫将基板的下表面吸附保持为水平。液接受杯与两个吸附垫连结。旋转保持盘将从吸附垫接受到的基板的下表面吸附保持为水平。壳体具有上表面开口的开口部。在壳体的底部设置有用于排出清洗液的排放管、以及用于对气流进行排气的排气管。第一清洗部清洗基板的上表面。第二清洗部清洗基板的下表面。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2020-43156号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的问题

2、本公开的一个方式提供一种去除保持部的污染的技术。

3、用于解决问题的方案

4、本公开的一个方式的基板处理装置具备利用处理液处理基板的处理部。所述处理部具有将所述基板保持为水平的保持部。所述保持部包括与所述基板的下表面中央接触的第一保持部。所述处理部具有使所述第一保持部以铅垂的旋转轴本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，具备利用处理液处理基板的处理部，所述处理部具有将所述基板保持为水平的保持部，所述保持部包括与所述基板的下表面中央接触的第一保持部，所述处理部具有使所述第一保持部以铅垂的旋转轴为中心旋转的旋转驱动部，所述基板处理装置具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求1～5中的任一项所...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，具备利用处理液处理基板的处理部，所述处理部具有将所述基板保持为水平的保持部，所述保持部包括与所述基板的下表面中央接触的第一保持部，所述处理部具有使所述第一保持部以铅垂的旋转轴为中心旋转的旋转驱动部，所述基板处理装置具备：

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，

4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

5.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中，

6.根据权利要求1～5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

7.根据权利要求1～5中的任一项所述的基板处理装置，其中，

8.根据权利要求1～5中的任一项所述的基板处理装置，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：小原隆宪，久留巢健人，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：