一种显影液稀释系统及方法技术方案

本发明专利技术提供了一种显影液稀释系统及方法，其中显影液稀释系统包括：混配储罐，所述混配储罐的顶部依次设有原液供应管路、纯水供应管路以及氮气供应管路，所述混配储罐的支脚处设有罐装称量装置；气动泵，所述气动泵通过第一输液管道连接于所述混配储罐的下端；换热器，所述换热器的入口端与所述气动泵通过第二输液管道连接，所述换热器的出口端连接第三输液管道，所述第三输液管道远离换热器的一端通过三通接头分别与回流管道及输出管道连接，所述回流管道的另一端与所述混配储罐的顶部连接。本发明专利技术通过供应模块调节模块实现高精度的流量控制，自动化稀释，大幅度的保证稀释系统的稳定，提高稀释浓度合格率，减少制造成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显影液稀释，具体涉及为一种显影液稀释系统及方法。

技术介绍

1、在半导体精密加工
，常用到光刻工序，光刻工序中会使用到正胶显影液和负胶显影液，正胶显影具有很好的对比度，生成的图形具有良好的分辨率，目前行业中主流工艺是使用正交显影液。常见的正胶显影液是浓度为2.38％的四甲基氢氧化铵(tmah)水溶液。

2、近年来，由于通讯和人工智能技术的快速发展，集成电路追求高密度化、集成化，因而对晶圆表面的构图的要求不断提升。为获得高对比度、高分辨率晶圆，这就对光刻显影工序中使用的显影液的质量提出了高要求，例如正胶显影液2.38％的四甲基氢氧化铵(tmah)水溶液浓度合格要求为±0.003％。

3、目前，集成电路制造厂商要获得符合要求浓度的显影液主要采用两种方式，方式一：通过向化学品供应商购买已经调配好浓度的显影液，对于显影液日用量大的制造厂商来说需要购买大批量的稀释液，不仅要准备大量的场地和储存罐，而且运输成本也很高；方式二：向化学品供应商采购一定浓度的显影液原液，然后稀释调配到标准浓度，但是这种方式对稀释系统的设计和稀释方本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显影液稀释系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显影液稀释系统，其特征在于，所述气动泵的数量至少为2个，至少2个所述气动泵并联连接，共同连接于所述第一输液管道和第二输液管道之间。

3.根据权利要求1所述的显影液稀释系统，其特征在于，所述系统还包括：

4.根据权利要求1所述的显影液稀释系统，其特征在于，所述第三输液管道上并联连接有至少2个浓度计。

5.一种显影液稀释方法，使用权利要求1-4任一项所述的显影液稀释系统，其特征在于，具体包括如下步骤：

【技术特征摘要】

1.一种显影液稀释系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显影液稀释系统，其特征在于，所述气动泵的数量至少为2个，至少2个所述气动泵并联连接，共同连接于所述第一输液管道和第二输液管道之间。

3.根据权利要求1所述的显影液稀释...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆柳，吴汉涛，严佳琦，李泽，
申请(专利权)人：上海金瑞铂智能科技有限公司，
类型：发明
国别省市：