一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺制造技术

技术编号:43968124 阅读:21 留言:0更新日期:2025-01-10 19:57
本发明专利技术公开了一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,包括两台隔板精馏塔、换热器及附属设备。本发明专利技术通过两台串联并耦合的隔板精馏塔不仅实现还原回收氯硅烷组分的高效分离,还对产品进行提纯,满足大型还原炉及电子级多晶硅的生产要求,与现有工艺相比,显著提高分离效率,降低杂质纯度,并且大幅度降低分离系统的能耗,具备优异的工业应用优势。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于氯硅烷分离,尤其涉及一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺


技术介绍

1、多晶硅是光伏产业和半导体产业的基础原料,目前,多晶硅的主要生产工艺是改良西门子法。首先利用冶金硅与氯化氢反应合成三氯氢硅粗品,然后对三氯氢硅粗品进行精馏提纯得到高纯三氯氢硅,接着通过还原反应和化学气相沉积(cvd)将高纯三氯氢硅转化成高纯度的多晶硅,还原后产生的尾气进行干法回收,回收的氢气返回还原工序,回收的液相氯硅烷送至精馏装置进行氯硅烷的组分分离,分离得到的高纯三氯氢硅返回还原工序,四氯化硅送至冷氢化工序制备三氯氢硅,二氯二氢硅则和四氯化硅反应生成三氯氢硅后也送至精馏工序。改良西门子法实现了氢气和氯硅烷的闭路循环利用,具有成熟、安全性能较好、容易扩建的优势。

2、三氯氢硅的氢还原过程中,三氯氢硅的转化率只有约10%,导致还原尾气中存在大量未反应的三氯氢硅,回收过程势必需要大量能耗。同时,还原反应过程除了副产四氯化硅和二氯二氢硅,还会生成比四氯化硅沸点更高的六氯乙硅烷等聚合氯硅烷,同时还有沸点比二氯二氢硅低的轻杂、沸点介于三氯氢硅和四氯化硅之间的重本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于,包含以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于:所述隔板精馏一塔(T1)的塔内设置一块垂直隔板,将隔板精馏一塔分为公共精馏段(T1-1)、隔板进料侧(T1-2)、隔板采出侧(T1-3)和公共提馏段(T1-4)。

3.如权利要求1所述的一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于:所述隔板精馏二塔(T2)的塔内设置一块垂直隔板,将隔板精馏二塔分为公共精馏段(T2-1)、隔板进料侧(T2-2)、隔板采出侧(T2-3)和公共提馏段(T2-4)。...

【技术特征摘要】

1.一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于,包含以下步骤:

2.如权利要求1所述的一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于:所述隔板精馏一塔(t1)的塔内设置一块垂直隔板,将隔板精馏一塔分为公共精馏段(t1-1)、隔板进料侧(t1-2)、隔板采出侧(t1-3)和公共提馏段(t1-4)。

3.如权利要求1所述的一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于:所述隔板精馏二塔(t2)的塔内设置一块垂直隔板,将隔板精馏二塔分为公共精馏段(t2-1)、隔板进料侧(t2-2)、隔板采出侧(t2-3)和公共提馏段(t2-4)。

4.根据权利要求1所述的一种用于还原回收氯硅烷分离提纯的隔板耦合工艺,其特征在于:所述隔板精馏一塔(t1)的塔顶气相出口分别与隔板精馏一塔(t1)冷凝器(e2)的壳程气相入口、隔板精馏二塔(t2)再沸器(e3)的壳程气相入口相连接,隔板精馏一塔(t1)冷凝器(e2)的壳程液相出口...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈锦溢郭莉华超房川琦白芳陆平张豪豪
申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所
类型:发明
国别省市:

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