【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于控制科学与工程领域,涉及一种非线性系统的辨识和控制方法,尤其是应用于超精密运动平台的建模与控制。
技术介绍
1、近年来,高集成度的高性能芯片制造过程中,光刻技术就是其中的一个技术难点。整个光刻机大致可以分为:极短波长光刻光源、超精密工件台系统、超精密掩模台系统、超精密光学投影系统、冷却系统以及照明系统等。其中,超精密平台通过x向的定位运动与y向的扫描运动,配合光刻机其他分系统完成扫描曝光的工序。因此,这对平台的运动精度、稳定性和动态响应提出了极高的要求。然而,超精密平台的非线性特性,如摩擦力、耦合振动和热效应等,给系统辨识和控制带来了巨大挑战。
2、传统建模辨识方法将整个超精密平台被控对象视为一个整体的系统,使得其中线性环节与非线性环节作为一个整体进行辨识,很大程度上增加了模型的复杂度和系统辨识的误差,而本专利技术的“线性系统i——非线性系统——线性系统ii”非线性系统结构适用于大部分非线性系统的模型结构,将线性与非线性子系统相互分离开分别分析,有益于提高系统辨识的精度,以便对控制器输出进行有效的补偿,获得更佳
...【技术保护点】
1.基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,所述步骤2)具体包括以下步骤;
3.根据权利要求1所述的基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,所述步骤1)包括如下步骤:
4.根据权利要求2所述的基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,权利要求2中步骤一)至步骤十)具体包括以下步骤:
【技术特征摘要】
1.基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,包括如下步骤:
2.根据权利要求1所述的基于遗传优化和数据滤波的分数阶超精密平台辨识方法,其特征在于,所述步骤2)具体包括以下步骤;
3.根据权利要求1...
【专利技术属性】
技术研发人员:宗天成,孙天航,林可儿,顾菊平,陆国平,华亮,吴梅林,程天宇,
申请(专利权)人:南通大学,
类型:发明
国别省市:
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