激光转印膜制造技术

技术编号:43962837 阅读:28 留言:0更新日期:2025-01-07 21:47
公开一种激光转印膜。所述激光转印膜依次包括基材层、热膨胀性光吸收层、以及粘合层,其中,所述基材膜的至少一表面包括无机颗粒和有机颗粒中的一种或多种,在所述基材膜的上方以小于或等于1秒的时间于0.5W至10W的激光功率范围内照射波长为1064nm的激光时,所述热膨胀性光吸收层和粘合层因膨胀而形成热膨胀穹顶,所述热膨胀穹顶的高径比为0.1至1。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

涉及一种激光转印膜


技术介绍

1、激光转印膜包括维持膜形状的基材膜、通过吸收激光而膨胀的热膨胀性光吸收层、以及粘合层。

2、利用激光转印膜对转印体进行转印的方式采取的是,在保持激光转印膜与接收体之间间隙的情况下,通过照射在位于基材膜上方的激光,选择性地使热膨胀性光吸收层膨胀,由此将粘合于粘合层上的转印体转印到接收体上。

3、热膨胀性光吸收层通过激光照射形成鼓胀形状的膨胀结构。若要将转印体有效地转印到接收体上所需的位置,需要照射激光时的基材膜的高透光率,并且上述膨胀结构的尺寸应在较宽的激光功率范围内均匀。

4、因此,需要一种激光转印膜,其具有高基材膜透光率以及在较宽范围的激光功率范围内尺寸均匀的膨胀结构,以将转印体有效地转印到接收体上的所需位置。


技术实现思路

1、技术问题

2、因此,一方面提供一种激光转印膜,其具有高基材膜透光率以及在较宽范围的激光功率范围内尺寸均匀的膨胀结构,以将转印体有效地转印到接收体上的所需位置。

3、技术方案

4本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种激光转印膜,其依次包括:基材膜;

2.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

3.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

4.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

5.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

6.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

7.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

8.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

9.根据权利要求8所述的激光转印膜,其中,

10.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

11.根据权利要求1所述的激光转印...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种激光转印膜,其依次包括:基材膜;

2.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

3.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

4.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

5.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

6.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

7.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

8.根据权利要求1所述的激光转印膜,其中,

9.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:李广会白明基宋政翰
申请(专利权)人:东丽尖端素材株式会社
类型:发明
国别省市:

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