【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于制造在微波频率下使用的陶瓷基板、谐振器与滤波器等微波元器件的微波介电陶瓷材料及其制备方法,属于微波介质陶瓷材料。
技术介绍
1、微波介质陶瓷指应用于微波频段(300mhz~300ghz,对应的电磁波长为1m~1mm)电路中作为介质材料并完成一定功能作用的陶瓷,被制作成滤波器、谐振器、双工器、介质天线等介质器件,广泛应用于卫星雷达、移动通信和全球定位系统等领域。衡量微波介质材料性能的三个主要指标是介电常数(εr)、品质因数(q×f)和谐振频率温度系数(τf)。随着5g/6g通讯技术的发展,高频和大带宽特性需要更密集的宏微基站来保证信号的全覆盖,这势必给微波介质陶瓷材料与元器件(介质天线、介质滤波器和基板)带来巨大的市场需求。同时通信频率和器件集成度的不断提升,信号延迟现象将愈加明显,系统损耗导致的发热量也显著增加,器件热稳定性逐渐变差,因此迫切需要材料具有低介电常数(εr<15)降低信号延时及材料与电极间的交互耦合损耗、高的品质因数来提高选频特性并降低传输损耗,以及近零的谐振频率温度系数保证微波电路的温度稳定性。但
...【技术保护点】
1.一种具有本征近零谐振频率温度系数的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的化学式为Ca2Ga2SiO7。
2.根据权利要求1所述的具有本征近零谐振频率温度系数的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的介电常数(εr)范围为8.0 ~ 10.5,品质因数(Q×f)的范围为35000 ~ 95000 GHz,谐振频率温度系数(τf)为–3.0 ppm/℃ ~ +3.0 ppm/℃。
3.一种权利要求1-2中任一权利要求所述的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的制备方法包括如下步骤:
4.根据权
...【技术特征摘要】
1.一种具有本征近零谐振频率温度系数的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的化学式为ca2ga2sio7。
2.根据权利要求1所述的具有本征近零谐振频率温度系数的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的介电常数(εr)范围为8.0 ~ 10.5,品质因数(q×f)的范围为35000 ~ 95000 ghz,谐振频率温度系数(τf)为–3.0 ppm/℃ ~ +3.0 ppm/℃。
3.一种权利要求1-2中任一权利要求所述的低介微波介质陶瓷,其特征在于,所述低介微波介质陶瓷的制备方法包括如下步骤:
4.根据权利要求3所述的低介微波介质陶瓷的制备方法,其特征在于,所述第一次...
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