【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学内窥探头设计，尤其涉及一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法。
技术介绍
1、不同波长的光经过同一聚焦光学元件时会出现聚焦光场的偏移，即无法聚焦到相同的位置，引发色差效应。在内窥光学相干层析成像领域，通常使用宽带光源以获得高纵向分辨率，而宽带光源会增加色差，造成成像伪影和模糊。此外，在内窥手术过程中，探头需要在狭窄的组织内操作，色差的存在会增加由探头运动和视角变化引起的光学失真，降低实时成像的准确性。因此消色差探头能够补偿和校正由宽带光源引起的色差，从而允许宽光谱信号在不影响成像精度的情况下被有效利用，提升整体图像质量。目前的消色差设计方案，大都集中于单个聚焦面或接近衍射极限的消色差设计，而这样的设计方案通常带来较短的焦深，而在光学相干层析成像中，捕获的高分辨图像只能维持在焦深范围内，一旦失焦，图像分辨率将急剧下降。所以同时实现消色差和焦深扩展成为内窥光学相干层析成像探头迫切需要解决的问题。
2、因此，本领域的技术人员致力于开发一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法。
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【技术保护点】
1.一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述步骤S100包括：
3.如权利要求2所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，设定T等于124，每个圆环的环宽为0.5μm。
4.如权利要求3所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述随机值的范围在1μm至15μm之间。
5.如权利要求1所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述步骤S200包括：
6.如权利要求1所述的内窥光...
【技术特征摘要】
1.一种消色差焦深扩展内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述步骤s100包括：
3.如权利要求2所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，设定t等于124，每个圆环的环宽为0.5μm。
4.如权利要求3所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述随机值的范围在1μm至15μm之间。
5.如权利要求1所述的内窥光学相干层析成像探头设计方法，其特征在于，所述步骤s200包括：
6.如权利要求1所...
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