【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种出料均匀的涂布模头及涂布设备，属于涂布设备领域。
技术介绍
1、涂布模头可用于tft光刻、oled（有机电致发光二极管）显示器制造、液晶显示器彩色滤光膜制造。使涂布模头均匀出料是涂布模头的设计重点。
2、目前现有的涂布模头使用单腔均匀性设计，设置半球形、半圆柱型或半水滴型腔体实现缓冲和提升均匀性的目的，需要进入腔体流体的流速和涂布出口截面积大小配合，才能达到想要的均匀效果，因此对进入腔体流体的流量和速度限制大，单机适用范围较窄，缓冲结构仍有待改进。
3、此外，目前涂布模头内部结构分布不够均匀，难以应用于大尺寸涂布，内部结构分布不均匀导致重量配比失衡，按现有设计做成大尺寸模头时，模头自重加上流体的重量会使模头发生轻微变形，涂布狭缝对这种轻微变形也十分敏感，例如80μm的涂布狭缝局部变窄至50μm，外观上几乎看不出来，但会严重影响涂布的均匀性。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的不足，本专利技术提供一种出料均匀的涂布模头及涂布设备，具有多级缓冲结构，...
【技术保护点】
1.一种出料均匀的涂布模头，其特征在于，包括支撑构件和从上往下依次连通的进料口（1）、分流通道（2）、扩散通道（3）、缓冲腔（4）、狭缝唇口（5），所述分流通道（2）的末端分出多个分流口（28）连接所述扩散通道（3）的始端，所述扩散通道（3）向下倾斜，所述缓冲腔（4）的始端与末端的连线上设置有缓冲柱（41）；所述扩散通道（3）、所述缓冲柱（41）和所述缓冲腔（4）的宽度均与所述狭缝唇口（5）的涂布幅宽相等，所述支撑构件包括设置在所述缓冲柱（41）中的第一支撑柱（61）和设置在所述缓冲腔（4）之外的第二支撑柱。
2.根据权利要求1所述的出料均匀的涂布模头，其...
【技术特征摘要】
1.一种出料均匀的涂布模头，其特征在于，包括支撑构件和从上往下依次连通的进料口（1）、分流通道（2）、扩散通道（3）、缓冲腔（4）、狭缝唇口（5），所述分流通道（2）的末端分出多个分流口（28）连接所述扩散通道（3）的始端，所述扩散通道（3）向下倾斜，所述缓冲腔（4）的始端与末端的连线上设置有缓冲柱（41）；所述扩散通道（3）、所述缓冲柱（41）和所述缓冲腔（4）的宽度均与所述狭缝唇口（5）的涂布幅宽相等，所述支撑构件包括设置在所述缓冲柱（41）中的第一支撑柱（61）和设置在所述缓冲腔（4）之外的第二支撑柱。
2.根据权利要求1所述的出料均匀的涂布模头，其特征在于，所述扩散通道（3）包括交替连接的竖流段（31）和平流段（32），所述平流段（32）与水平面的夹角为-30°~0°。
3.根据权利要求2所述的出料均匀的涂布模头，其特征在于，所述竖流段（31）上设置有缓冲槽（311），所述缓冲槽（311）的径向截面形状为圆形、椭圆形或倒水滴形。
4.根据权利要求1所述的出料均匀的涂布模头，其特征在于，所述扩散通道（3）共有两个，所述分流通道（2）的末端分出两组所述分流口（28），一组所述分流口（28）对应连接一个所述扩散通道（3）的始端，所述分流通道（2）自身、所述缓冲腔（4）自身以第一平面为对称面，两个所述扩散通道（3）以所述第一平面为对称面，所述第一平面为所述狭缝唇口（5）所在竖直平面，两个所述扩散通道（3）的末端与所述缓冲腔（4）连通。
5.根据权利要求4所述的出料均匀的涂布模头，其特征在于，两个所...
【专利技术属性】
技术研发人员：马宝真，蔡炜，杨一新，文享龙，邬全兵，
申请(专利权)人：季华实验室，
类型：发明
国别省市：
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