【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜，特别涉及一种全自动真空镀膜设备。
技术介绍
1、真空镀膜的工作原理是在真空环境下，通过加热靶材使其蒸发，并在电场的作用下，这些蒸发的原子或分子被加速并轰击基片，从而在基片表面形成一层薄膜，这个过程涉及多种技术，包括物理气相沉积、磁控溅射、离子镀等。其中，物理气相沉积技术使用低电压、大电流的电弧放电，使靶材蒸发，而磁控溅射技术则通过磁场束缚和延长电子的运动路径，提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量，从而加速靶材原子的溅射沉积。
2、目前，在真空镀膜的过程中需要进行气体输送，气体输送装置是指用以输送气体的装置，常用于真空镀膜过程中，在真空镀膜的工艺体系内，气体输送装置主要将惰性气体输送到真空腔室内，用于对薄膜表面进行镀膜，但是现有的气体输送装置在真空镀膜条件下，其出气孔容易被堵住，造成真空镀膜失败。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种全自动真空镀膜设备，现有的气体输送装置在真空镀膜条件下，其出气孔容易被堵住，造成真空镀膜失败的问题。
2、...
【技术保护点】
1.一种全自动真空镀膜设备，包括：真空镀膜设备本体(1)和过滤箱(2)，其特征在于，所述过滤箱(2)内壁设置有多个卡块(12)，相连两个所述卡块(12)之间滑动连接有过滤网(5)，所述过滤箱(2)中部转动连接有转杆(14)，所述转杆(14)外部固定连接有连接件(15)，所述连接件(15)两侧均固定连接有连接杆(7)，两个所述连接杆(7)一端固定连接有清理板(6)。
2.根据权利要求1所述的一种全自动真空镀膜设备，其特征在于，所述转杆(14)外部转动连接有连接套(16)，所述连接套(16)外侧固定连接有固定杆(20)，所述固定杆(20)另一端与过滤箱(2)内
...【技术特征摘要】
1.一种全自动真空镀膜设备，包括：真空镀膜设备本体(1)和过滤箱(2)，其特征在于，所述过滤箱(2)内壁设置有多个卡块(12)，相连两个所述卡块(12)之间滑动连接有过滤网(5)，所述过滤箱(2)中部转动连接有转杆(14)，所述转杆(14)外部固定连接有连接件(15)，所述连接件(15)两侧均固定连接有连接杆(7)，两个所述连接杆(7)一端固定连接有清理板(6)。
2.根据权利要求1所述的一种全自动真空镀膜设备，其特征在于，所述转杆(14)外部转动连接有连接套(16)，所述连接套(16)外侧固定连接有固定杆(20)，所述固定杆(20)另一端与过滤箱(2)内壁固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种全自动真空镀膜设备，其特征在于，所述过滤箱(2)外侧设置有驱动电机(10)，所述驱动...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘振国，刘侦，彭建鑫，
申请(专利权)人：贵州玉山九鼎科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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