显示面板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，该制作方法包括：提供显示背板，显示背板包括衬底基板、发光单元和封装层；在封装层上形成光学层图形，光学层图形限定出多个开口区域，开口区域用于发光单元出射光线；在光学层图形上形成光刻胶层，对光刻胶层进行构图以形成光刻胶图形，光刻胶图形填充开口区域；在光刻胶图形上形成黑矩阵层，对黑矩阵层进行构图以形成黑矩阵，黑矩阵在显示背板上的正投影与光刻胶图形在显示背板上的正投影不重叠；剥离光刻胶图形；形成滤光层图形，滤光层图形的折射率大于光学层图形的折射率，光学层图形和滤光层图形构成聚光结构，聚光结构使发光单元向两侧发散的光向中间区域汇聚。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术实施例涉及显示，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

技术介绍

1、随着显示行业的迅猛发展，消费者对于显示器件的功耗要求越来越严格，eic方案，即coe(color filter on tfe，滤光片在封装层之上)+ees(external extractionstructure，外部提取结构)，逐渐成为了潮流和趋势，其中，coe方案是替代pol(偏光片)并降低功耗的主流技术，ees方案可提高显示器件的正面出光收益。eic方案集成coe和ees两种方案，使得显示器件的功耗得到了更好的降低。但eic方案中，将bm(黑矩阵)工艺后置于ees的eoc pattern(低折射率光学层图形)的设计，导致eoc深坑位置bm材料易于残留，引发工艺不良，从而影响显示器件的显示效果。

技术实现思路

1、本专利技术实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，用于解决现有的eic方案中，将bm工艺后置于ees的eoc pattern的设计，导致eoc深坑位置bm材料易于残留，引发工艺不良，从而影响显示器件的显示本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述剥离所述光刻胶图形包括：

4.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于：

5.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述提供显示背板包括：

6.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，在所述封装层上形成光学层图形之前还包括：

7.一种显示面板，其特征在于，采用如权利要求1-6任一项所述的显示面板的制作方法制作而成，所述显示面板包...

【技术特征摘要】

1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于：

3.如权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述剥离所述光刻胶图形包括：

4.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于：

5.如权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述提供显示背板包括：

6.如权利要求1所述的显示面板...

【专利技术属性】
技术研发人员：王毅豪，石博，方芳，蒋丹霞，王世龙，牛佐吉，王梦奇，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：