【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于光固化，具体涉及一种光固化像素排布结构、光固化模组及打印设备。
技术介绍
1、现有打印装置的光固化存在固化效率低以及产生黄化问题，主要原因在于，选用短波长(高能量)或大强度的紫外光照射造成黄化，选择长波长(低能量)或低强度的光照射，或者缩短照射固化时间造成固化速率不够，形成拖影。上述问题针对多色多材料打印固化或多墨水体系的打印固化尤为明显。
2、基于此，目前通用的解决方式是改变墨水配方。如，采用多个或多种官能团以提高固化速度或适配性。但是，此解决方案无疑将会提高墨水的合成难度和成本，且存在墨水稳定性不足或保存寿命较短等问题。
3、公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种光固化像素排布结构、光固化模组及打印设备，其能够提高光固化效果，避免黄化等问题。
2、为了实现上述目的，本专利技术一...
【技术保护点】
1.一种光固化像素排布结构，其特征在于，包括阵列分布的若干第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素；
2.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形内，所述第一类子像素的数量小于所述第二类子像素的数量。
3.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形内，所述第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素的数量比为3:4:1。
4.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形为菱形；和/或，
5.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，...
【技术特征摘要】
1.一种光固化像素排布结构，其特征在于，包括阵列分布的若干第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素；
2.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形内，所述第一类子像素的数量小于所述第二类子像素的数量。
3.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形内，所述第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素的数量比为3:4:1。
4.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形为菱形；和/或，
5.根据权利要求1所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第一虚拟四边形内，
6.一种光固化像素排布结构，其特征在于，包括阵列分布的若干第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素；
7.根据权利要求6所述的光固化像素排布结构，其特征在于，所述第二虚拟四边形内，所述第一类子像素的数量等于所述第二类子像素的数量。
【专利技术属性】
技术研发人员：梁舰，王智伟，魏永强，沈雁伟，许奇明，
申请(专利权)人：苏州立琻半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：
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