密封系统技术方案

技术编号:43922206 阅读:32 留言:0更新日期:2025-01-03 13:26
本发明专利技术涉及一种用于隔离两个压力区域的密封系统,其包括布置在轴与构件之间的密封装置。根据本发明专利技术规定,所述密封装置可轴向移动地布置在槽中,其中,所述密封装置具有密封面并且所述槽具有槽密封面,其中,根据压力区域中的压力关系,密封装置能够移动到第一功能位置或第二功能位置中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】


技术介绍


技术实现思路

【技术保护点】

1.一种密封系统(1),其用于隔离两个压力区域(5.1、5.2),所述密封系统包括布置在轴(3)与构件(2)之间的密封装置(4),其中,所述密封装置(4)能轴向移动地布置在槽(11)中,其中,所述密封装置(4)具有密封面(7.1、7.2),并且所述槽(11)具有槽密封面(12.1、12.2),其中,密封装置(4)能够根据压力区域(5.1、5.2)中的压力关系移动到第一功能位置或第二功能位置中,其特征在于,所述密封装置(4)具有径向密封面(15),所述径向密封面的直径D能够通过滑块区域(16)弹性调整。

2.根据权利要求1所述的密封系统(1),其特征在于,在所述第一功能位置中,...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种密封系统(1),其用于隔离两个压力区域(5.1、5.2),所述密封系统包括布置在轴(3)与构件(2)之间的密封装置(4),其中,所述密封装置(4)能轴向移动地布置在槽(11)中,其中,所述密封装置(4)具有密封面(7.1、7.2),并且所述槽(11)具有槽密封面(12.1、12.2),其中,密封装置(4)能够根据压力区域(5.1、5.2)中的压力关系移动到第一功能位置或第二功能位置中,其特征在于,所述密封装置(4)具有径向密封面(15),所述径向密封面的直径d能够通过滑块区域(16)弹性调整。

2.根据权利要求1所述的密封系统(1),其特征在于,在所述第一功能位置中,实现压力区域(5.1、5.2)的隔离,并且在所述第二功能位置中,实现压力区域(5.1、5.2)之间的压力平衡,其方式在于,所述密封面(7.1、7.2)和/或所述槽密封面(12a、b)的至少一个具有凹空(13.1、13.2、14),从而在第二功能位置中在压力区域之间保留通道(10)。

3.根据权利要求2所述的密封系统(1),其特征在于,所述通道(10)由此构成,即,设置多个凹空(13.1、13.2...

【专利技术属性】
技术研发人员:D·劳克曼A·马丁M·布鲁门斯托克
申请(专利权)人:福伊特专利有限公司
类型:发明
国别省市:

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