NiP改性反射镜的超光滑抛光加工方法技术

本发明专利技术公开了一种NiP改性反射镜的超光滑抛光加工方法，该加工方法包括：制备NiP改性层，对NiP改性层进行超精密车削加工和超光滑抛光加工，直至满足指标要求。本发明专利技术加工方法中，利用超精密车削和超光滑抛光对NiP改性反射镜毛坯工件进行加工，不仅可有效消除NiP改性反射镜毛坯工件加工过程中产生的表面缺陷，有利于提高加工效率，同时能有效抑制反射镜表面的中高频误差，进而可以显著提升加工的面形精度和表面质量，能够将NiP改性反射镜毛坯工件加工成更高质量的NiP改性反射镜，具有加工缺陷少、加工质量高、加工效率高、可重复性好等优势，对于促进NiP改性反射镜在短波长光学领域的广泛应用具有重要意义。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学元件的超精密加工，涉及一种nip改性反射镜的超光滑抛光加工方法。

技术介绍

1、在光学反射镜中，反射镜的表面粗糙度会导致随入射光能量变化的表面散射，为了有效地反射入射光，反射镜的表面必须足够光滑。光学反射镜的质量对光学系统的性能起着十分关键的作用，光学系统的应用光谱波段越短，对系统中反射镜的表面质量要求就越高。因此，为了使反射镜能够应用到短波长波段的应用场合，对反射镜的表面质量提出了更高的要求。

2、现有以铝、铍等轻金属材料加工的反射镜中，通过在反射镜表面镀覆nip改性层，可以避免加工时产生划痕、凹坑等缺陷，同时通过对nip改性层进行超精密车削加工即可将nip改性层制成光学镜面；进一步的，通过对nip改性反射镜进行磁流变抛光修形加工，可以进一步改善镜面质量，但是由此获得的反射镜也仅能适用于可见光波段的应用场合，无法适用于更短波长波段的应用场合。因此，为了满足更高的使用要求，还需要对反射镜镜面进行深加工，以获得更高质量的反射镜。

3、现有技术中，有研究人员提出了一种采用磁流变修形和手动保形光顺抛光加工掠入射亚纳米级芯本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种NiP改性反射镜的超光滑抛光加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，步骤S4中，所述超光滑抛光液按照质量百分含量计包含以下原料组分：

3.根据权利要求2所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，所述金属表面缺陷改善剂为乙二醇、1,4-丁二醇、甘油中的至少一种；所述抛光磨料为氧化硅；所述氧化剂为过氧化氢；所述络合剂为苹果酸、乙酸、柠檬酸、水杨酸、乳酸、甘氨酸、丙氨酸中的至少一种；所述表面活性剂为硬脂酸钠、硬脂酸钾、十二烷基苯磺酸钠中的至少一种；所述pH调节剂为氢氧化钾、氢氧化钠、醋酸钠、碳酸钠、硼酸钠中的至少...

【技术特征摘要】

1.一种nip改性反射镜的超光滑抛光加工方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，步骤s4中，所述超光滑抛光液按照质量百分含量计包含以下原料组分：

3.根据权利要求2所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，所述金属表面缺陷改善剂为乙二醇、1,4-丁二醇、甘油中的至少一种；所述抛光磨料为氧化硅；所述氧化剂为过氧化氢；所述络合剂为苹果酸、乙酸、柠檬酸、水杨酸、乳酸、甘氨酸、丙氨酸中的至少一种；所述表面活性剂为硬脂酸钠、硬脂酸钾、十二烷基苯磺酸钠中的至少一种；所述ph调节剂为氢氧化钾、氢氧化钠、醋酸钠、碳酸钠、硼酸钠中的至少一种。

4. 根据权利要求3所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，步骤s4中，所述超光滑抛光加工的工艺参数为：采用的抛光盘为沥青抛光盘或阻尼布抛光盘，所述抛光盘的大小为所述nip改性反射镜尺寸的四分之一至十六分之一，所述抛光盘的形状与所述nip改性反射镜相适配，使所述抛光盘与所述nip改性反射镜贴合，采用的加工路径为光栅或螺旋扫描路径，采用的抛光头的自转转速为80 rpm～120 rpm，抛光气压为0.01 mpa～0.5 mpa。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，步骤s1中，在反射镜基体表面制备nip改性层，包括以下步骤：

6. 根据权利要求5所述的超光滑抛光加工方法，其特征在于，步骤s1-1中，采用化学镀镍的方式在反射镜基体表面制备nip改性层；所述nip改性层的厚度为80 μm～120 μm；...

【专利技术属性】
技术研发人员：赖涛，徐超，彭小强，刘俊峰，胡皓，关朝亮，
申请(专利权)人：中国人民解放军国防科技大学，
类型：发明
国别省市：