【技术实现步骤摘要】
本申请涉及外延炉，具体而言，涉及一种外延炉维护系统及方法。
技术介绍
1、在外延生长工艺过程中，工艺气体会在上半月反应腔体的底面表面发生化学反应，以在上半月反应腔体的底面形成颗粒。为了避免出现由于沉积在上半月反应腔体的底面上的颗粒物过多而导致部分颗粒掉落到晶圆上，造成掉落物缺陷的情况，相关技术通常在外延生长工艺的累积完成次数达到预设次数后对上半月反应腔体进行维护，以去除上半月反应腔体上沉积的颗粒。相关的上半月反应腔体维护流程为：使传送室与反应室分离，以露出上半月反应腔体；将上半月反应腔体取出反应室；对上半月反应腔体进行维护；将完成维护的上半月反应腔体放回反应室内；使传送室与反应室相连。由于在传送室与反应室分离后，反应室内的石墨件和气路元件会暴露在空气中，因此相关技术存在由于反应室内的石墨件和气路元件与空气接触而导致反应室内的石墨件和气路元件氧化的问题，且由于使传送室与反应室分离以及使传送室与反应室相连所需要的时间较长，因此相关技术还存在维护效率低的问题，从而导致外延炉的外延生长效率低。
2、针对上述问题，目前尚未有有效的技术...
【技术保护点】
1.一种外延炉维护系统，其特征在于，所述外延炉维护系统包括：
2.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述在完成外延生长工艺后，控制所述第一开关阀打开，然后利用所述机械臂将所述上半月反应腔体移动至所述图像采集组件上方的过程包括：
3.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述沉积颗粒参数信息包括沉积颗粒覆盖率，所述预设颗粒参数包括预设颗粒覆盖率，所述沉积颗粒覆盖率为上半月反应腔体的底面中沉积有颗粒的区域的面积与所述上半月反应腔体的底面的总面积的比例。
4.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述外延...
【技术特征摘要】
1.一种外延炉维护系统，其特征在于，所述外延炉维护系统包括：
2.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述在完成外延生长工艺后，控制所述第一开关阀打开，然后利用所述机械臂将所述上半月反应腔体移动至所述图像采集组件上方的过程包括：
3.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述沉积颗粒参数信息包括沉积颗粒覆盖率，所述预设颗粒参数包括预设颗粒覆盖率，所述沉积颗粒覆盖率为上半月反应腔体的底面中沉积有颗粒的区域的面积与所述上半月反应腔体的底面的总面积的比例。
4.根据权利要求1所述的外延炉维护系统，其特征在于，所述外延炉维护系统还包括抽真空组件和惰性气体供应组件，所述抽真空组件和惰性气体供应组件均与所述维护室连接，所述控制器还用于在完成维护的上半月反应腔体放回所述维护室内且所述维护腔门关闭时，控制所述抽真空组件对所述维护室进行抽真空，直至所述维护室内的气压达到第一预设气压，然后控制所述惰性气体供应组件向所述维护室供应惰性气体，直至所述维护室内的气压达到第二预设气压，所述控制器还用于在所述维护室内的气压达到第二预设气压时，控制所述第一开关阀打开，然后利用所述机械臂将完成维护的上半月反应腔体放置到所述下半月反应腔体上。
5.根据权利要...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。