【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开涉及摄像装置及其制造方法。
技术介绍
1、在专利文献1中记载了摄像装置的一例。在专利文献1中，记载了通过涂布法形成光电转换膜并在其后进行干法蚀刻。
2、在先技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：日本特开2006-32714号公报
技术实现思路
1、本公开实现具有高可靠性的摄像装置。
2、本公开提供一种摄像装置的制造方法，包括：
3、形成光电转换膜，以使平面图中的所述光电转换膜与所述支承基板的重复面积相对于平面图中的支承基板的面积的比率比0％大且比100％小；以及
4、通过第1蚀刻使所述光电转换膜在平面图中的面积减小。
5、本公开所涉及的技术适于实现具有高可靠性的摄像装置。
【技术保护点】
1.一种摄像装置的制造方法，包括：
2.如权利要求1所述的制造方法，
3.如权利要求1或者2所述的制造方法，
4.如权利要求1所述的制造方法，
5.如权利要求4所述的制造方法，
6.如权利要求1所述的制造方法，
7.如权利要求1所述的制造方法，
8.如权利要求1所述的制造方法，
9.如权利要求1所述的制造方法，
10.如权利要求1所述的制造方法，
11.如权利要求1所述的制造方法，
12.如权利要求11所述的制造方法，
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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种摄像装置的制造方法，包括：
2.如权利要求1所述的制造方法，
3.如权利要求1或者2所述的制造方法，
4.如权利要求1所述的制造方法，
5.如权利要求4所述的制造方法，
6.如权利要求1所述的制造方法，
7.如权利要求1所述的制造方法，
8.如权利要求1所述的制造方法，
9.如权利要求1所述的制造方法，
10.如权利要求1所述的制造方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：矶野俊介，留河优子，平濑顺司，境田良太，
申请(专利权)人：松下知识产权经营株式会社，
类型：发明
国别省市：
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