【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空炉,具体为一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备。
技术介绍
1、无落差暗流浇铸是一种特殊的铸造方法,也称为无落差连续浇铸。它是利用流体的惯性和重力,在铸件充型过程中保持连续、平稳、无间断的流动状态,以实现高质量的铸造。
2、专利号202122229713.3提出了一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,其中真空中频熔炼炉的筒状炉体内放置石墨坩埚,石墨坩埚的上端设有坩埚上沿,坩埚上沿上开设竖直方向贯通的缺口形成流液通道,流液通道依次连接出铝溜槽、真空挡板阀、旋转溜槽和固定溜槽;铝熔体浇注时,真空中频熔炼炉炉体倾转,石墨坩埚中的铝熔体经流液通道流出,再经浇注组件直至结晶器完成无落差落铸,避免熔体落差及扰动等造成气渣卷入,最终实现低气低渣的高品质高纯铝产品制备。
3、不过上述设备在使用过程中发现,其通过转轴带动炉体进行倾转,但是炉体的流液通道与转轴处于同一水平面上,使得炉体在转动时,流液通道始终保持水平状态,因此在浇铸过程中炉体内的流液经过流液通道的速度相对较慢,从而影响到后续的加工效率。
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...【技术保护点】
1.一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,包括基座(1),其特征在于:所述基座(1)的顶部一侧设置有浇铸器(2)的一侧,所述浇铸器(2)上设置有进液管(3),所述基座(1)的顶部中间设置有滑槽(11),所述基座(1)内部设置有驱动电机(12),所述驱动电机(12)的输出端与螺纹杆(13)相连接,所述螺纹杆(13)穿过滑块(14),所述滑块(14)设置在滑槽(11)中,所述基座(1)的顶部设置有调节座(6),所述调节座(6)设置在进液管(3)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,其特征在于:所述调节座(6)的顶部左右两侧均设置有连接
...【技术特征摘要】
1.一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,包括基座(1),其特征在于:所述基座(1)的顶部一侧设置有浇铸器(2)的一侧,所述浇铸器(2)上设置有进液管(3),所述基座(1)的顶部中间设置有滑槽(11),所述基座(1)内部设置有驱动电机(12),所述驱动电机(12)的输出端与螺纹杆(13)相连接,所述螺纹杆(13)穿过滑块(14),所述滑块(14)设置在滑槽(11)中,所述基座(1)的顶部设置有调节座(6),所述调节座(6)设置在进液管(3)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种真空炉用无落差暗流浇铸的设备,其特征在于:所述调节座(6)的顶部左右两侧均设置有连接板(61),所述连接板(61)的内部设置有炉体(5),所述炉体(5)的左右两侧均设置有转轴(62),所述炉体(5)靠近进液管(3)一侧的转轴(62)中间设置有连接管(4),所述炉体(5)远离进液管(3)一侧的转轴(62)与连...
【专利技术属性】
技术研发人员:周英龙,尹立红,
申请(专利权)人:南京畅鸿新材料有限公司,
类型:新型
国别省市:
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