【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及防伪，具体涉及一种液晶薄膜的制作方法和制作液晶薄膜的设备。
技术介绍
1、目前，为了通过液晶材料实现近场或远场图像显示，通常对液晶材料采用光取向的方式进行液晶取向，光控取向材料在特定波长的线偏振光下发生定向光反应而取向，并通过分子间作用带动与之接触的液晶分子取向，在相关技术中，当需要进行多畴取向时，通过计算机输出图形信号控制单个微镜的反射状态起到数字掩模作用，从而解决多个曝光区域的套准问题，但是曝光光线经透镜阵列反射后，需通过线偏振片获得需要的偏振方向，为了获得不同的分子取向，仍需多步曝光，每次改变曝光图案时均需要转动偏振片来改变光线的偏振方向，生产效率受限。
技术实现思路
1、本专利技术旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
2、为此，本专利技术的第一方面提出一种液晶薄膜的制作方法。
3、本专利技术的第二方面提出一种制作液晶薄膜的设备。
4、有鉴于此，本专利技术的第一方面提供了一种液晶薄膜的制作方法，包括：在基材的至少部分表...
【技术保护点】
1.一种液晶薄膜的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，在所述在基材的至少部分表面施加光控取向层之后，所述液晶薄膜的制作方法还包括：
4.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，所述在所述光控取向层的表面施加第二液晶层，其中，所述第二液晶层的多个区域内的第二液晶分子的排列方向与所述光控取向层多个第一区域内的取向层分子的排列方向平行或垂直之后，所述液晶薄膜的制作方法还包括：
5.根据权利要求4所述的液晶薄膜...
【技术特征摘要】
1.一种液晶薄膜的制作方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，在所述在基材的至少部分表面施加光控取向层之后，所述液晶薄膜的制作方法还包括：
4.根据权利要求1所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，所述在所述光控取向层的表面施加第二液晶层，其中，所述第二液晶层的多个区域内的第二液晶分子的排列方向与所述光控取向层多个第一区域内的取向层分子的排列方向平行或垂直之后，所述液晶薄膜的制作方法还包括：
5.根据权利要求4所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，所述第一预设温度大于等于50℃，小于等于120℃。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的液晶薄膜的制作方法，其特征在于，所述第一预设波长大于等于190nm，小于等于510nm。
<...【专利技术属性】
技术研发人员：陈庚，王斌，陈韦，刘萃，欧阳苏阳，古克，辛科，
申请(专利权)人：中国印钞造币集团有限公司，
类型：发明
国别省市：
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