一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置及方法制造方法及图纸

一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，包括等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统和辅助加工系统，辅助加工系统的装载盘安装在工件转换器的一侧，装载盘的轴心处设有转轴，转轴与转动器过渡配合，转速控制箱通过导线控制转轴转速；连接架的上端安装工具转换器，连接架左右两端通过导管分别与吸气泵连接，导管底部通入收集室，连接架的下端安装在工件内孔正上端；等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统均位于工具转换器的上方，微细磨粒喷射系统安装在装载盘上，等离子体发生系统安装在工件转换器的另一侧。以及提供一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造方法。本发明专利技术易排屑、较高的光整面形精度、加工可控性高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于原子近原子尺度超精密研抛领域，具体涉及一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置及方法。

技术介绍

1、由于空间结构限制或推重比要求，盲孔被广泛的应用于集成电路、液压、汽车等领域，如在旋转物体中作动平衡的定位销孔(盲孔)，在液压系统及内燃发动机中用作活塞缸筒。然而盲孔内表面的光整加工较为困难，尤其是底部棱边处的加工，且国内外研究人员对于盲孔的研究较少，使得对盲孔内部后续精密加工成为了国内一大加工难题。国内大多采用化学抛光的方式进行管内表面的光整加工，然而，化学加工液容易造成污染环境。超精密研磨抛光以不改变工件材料物理特性为前提，去除表面毛刺、损伤层等缺陷，从而提高工件表面精度、完整性的近/无损伤加工制造技术，常用于半导体、光学元件、功能陶瓷等难加工材料元器件或塑性材料零件的高性能制造。

2、等离子体辅助抛光是一种表面处理技术，其中等离子体与材料表面相互作用，通过化学反应和物理效应来改善材料表面的光洁度和质量。该过程通常在真空或气氛控制下进行，使用射频等离子体源产生等离子体。等离子体中的带电粒子与材料表面发生化学反应，以去除表面缺陷本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，其特征在于，所述装置包括等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统和辅助加工系统，所述的辅助加工系统包括转速控制箱、转动器、转轴、工具转换器，装载盘、连接架、吸气泵和收集室，所述装载盘安装在工件转换器的一侧，所述装载盘的轴心处设有转轴，转轴与转动器过渡配合，转速控制箱通过导线控制转轴转速；连接架的上端安装工具转换器，连接架左右两端通过导管分别与吸气泵连接，导管底部通入收集室，连接架的下端安装在工件内孔正上端，与工件内孔形成加工所需的密闭空间；所述等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统均位于工具转换器的上方，所述微细磨粒喷射系统安装在装载盘上，所述等离子...

【技术特征摘要】

1.一种等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，其特征在于，所述装置包括等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统和辅助加工系统，所述的辅助加工系统包括转速控制箱、转动器、转轴、工具转换器，装载盘、连接架、吸气泵和收集室，所述装载盘安装在工件转换器的一侧，所述装载盘的轴心处设有转轴，转轴与转动器过渡配合，转速控制箱通过导线控制转轴转速；连接架的上端安装工具转换器，连接架左右两端通过导管分别与吸气泵连接，导管底部通入收集室，连接架的下端安装在工件内孔正上端，与工件内孔形成加工所需的密闭空间；所述等离子体发生系统、微细磨粒喷射系统均位于工具转换器的上方，所述微细磨粒喷射系统安装在装载盘上，所述等离子体发生系统安装在工件转换器的另一侧。

2.如权利要求1所述的等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，其特征在于，所述装载盘上安装转轴和导轨，转轴与转动器连接，为微细磨粒喷射加工提供所需动力；所述微细磨粒喷射系统与装载盘的导轨连接，所述导轨是沿着装载盘的半径分布，用于调节加工半径，以便适应不同尺寸的工件内孔。

3.如权利要求1或2所述的等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，其特征在于，在加工区域内工件表面覆盖保护膜，保护膜对工件表面起到保护作用，防止工件表面被等离子体氧化和微细磨粒磨损。

4.如权利要求1或2所述的等离子辅助微细磨粒喷射抛光加工制造装置，其特征在于，所述的等离子体发生系统包括气体供给模块、辐射电源模块和等离子体激发模块，其中，气体供给模块所供给的气体包括冷却气体、反应气体和惰性气体，等离子体激发模块包括等离子体炬管、抗阻匹配器、感应线圈和电火花发生器，所述的气体供给模块的供气箱的右侧通过导管分别与冷却气体、反应气体和惰性气体相连，其中，惰性气体和反应气体在供给箱混合后通过导管从等离子体炬管内部管...

【专利技术属性】
技术研发人员：李敏，李欣涛，李木子，訾斌，董婷，
申请(专利权)人：合肥工业大学，
类型：发明
国别省市：