【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及空间光学系统,具体涉及一种无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统。
技术介绍
1、目前光学载荷在轨工作时,由于在轨真空环境与地面实验室常压环境变化,使得光学系统最佳焦面位置发生变化,产生真空离焦(最佳焦面前移),光学系统性能严重下降。
2、目前对于在轨光学载荷的真空离焦问题有以下两种解决方案:
3、1.设计焦深大、真空离焦量小的光学系统来弥补离焦对像质的影响;
4、2.通过调焦机构来实时调整最佳焦面位置。对于空间碎片探测光学系统,其f数较小(≤2),焦深(±0.02mm)小于真空焦面预置量(>0.05mm),系统像质退化严重。通过调焦机构实现焦面预置需要增加系统重量、运动机构,极大增加了系统成本。
5、通常,实际光学系统装调均在地面常温常压条件下进行,装星前需要对在地面常压环境下装配完成的测试光学系统的最佳焦面进行预置,使其在轨性能最佳。焦面预置后光学系统在地面常压测试时,需要频繁地将预置的最佳焦面位置调整为常压位置,工作繁琐,导致非常耗时。
技术
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1.一种无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
5.根据权利要求1-4任一所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
6.根据权利要求5所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
7.根据权利要求5所述的无需真空预置焦面的
...【技术特征摘要】
1.一种无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
2.根据权利要求1所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的无需真空预置焦面的空间碎片探测光学系统,其特征在于:
4.根据权利要求3所述的无需真空预置焦面的空间碎片...
【专利技术属性】
技术研发人员:庞志海,贺天兵,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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