【技术实现步骤摘要】
本技术涉及湿法抛光设备过滤,尤其涉及一种湿法抛光设备过滤机构。
技术介绍
1、湿法抛光设备,如湿式抛光机,是一种用于对工件进行抛光的设备。在工作原理上,湿式抛光机结合了机械研磨和化学反应两个方面。机械研磨是通过旋转的研磨盘和加压装置实现的,研磨盘上覆盖有高硬度的磨料,如金刚石、碳化硅等,通过旋转摩擦与工件表面接触,去除表面的不平整和氧化层。而化学反应则是通过喷洒水和研磨材料的混合物实现的,这不仅可以冷却研磨盘和工件,防止过热,还可以冲刷走磨屑和研磨粉末,保持研磨效果的稳定性。
2、但是现有技术中,现有的湿法抛光设备需要持续的加入水来进行冷却,水也可以将磨出的碎屑冲刷掉,所以水里面会含有大量的碎屑,这些含有大量碎屑的水很难进行二次的循环利用,这样就导致水资源的大量浪费。
技术实现思路
1、本技术提供了一种湿法抛光设备过滤机构,解决了以上所述的水里面会含有大量的碎屑,很难进行二次的循环利用造成水资源浪费的结构技术问题。
2、本技术解决上述技术问题的方案如下:一种湿法抛光
...【技术保护点】
1.一种湿法抛光设备过滤机构,包括两个支撑板(1),其特征在于:每个所述支撑板(1)的顶部靠近两侧处均设置有弹簧(2),四个所述弹簧(2)的顶部均设置有圆形板(3),四个所述圆形板(3)的顶部之间均设置有下料槽(4),所述下料槽(4)的内部两侧之间均设置有过滤板(5),所述过滤板(5)的顶部设置有一号过滤口区(6),所述下料槽(4)的内部两侧均设置有排料口(7),所述下料槽(4)的两侧均设置有围挡板(8),所述下料槽(4)的两侧靠近底部处均设置有出料槽(9),每个所述出料槽(9)的内部底面均设置有二号过滤口区(10),所述下料槽(4)的另两侧均设置有振动电机(11),
...【技术特征摘要】
1.一种湿法抛光设备过滤机构,包括两个支撑板(1),其特征在于:每个所述支撑板(1)的顶部靠近两侧处均设置有弹簧(2),四个所述弹簧(2)的顶部均设置有圆形板(3),四个所述圆形板(3)的顶部之间均设置有下料槽(4),所述下料槽(4)的内部两侧之间均设置有过滤板(5),所述过滤板(5)的顶部设置有一号过滤口区(6),所述下料槽(4)的内部两侧均设置有排料口(7),所述下料槽(4)的两侧均设置有围挡板(8),所述下料槽(4)的两侧靠近底部处均设置有出料槽(9),每个所述出料槽(9)的内部底面均设置有二号过滤口区(10),所述下料槽(4)的另两侧均设置有振动电机(11),所述下料槽(4)的底部靠近另两侧均设置有阻尼器(12)。
2.根据权利要求1所述的一种湿法抛光设备过滤机构,其特征在于:每个所述支撑板(1)的底部之间均设置有底板(13),所述底板(13)的顶部靠...
【专利技术属性】
技术研发人员:魏建华,谢俊,
申请(专利权)人:青岛威尔士服饰科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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