一种湿法抛光设备过滤机构制造技术

技术编号:43828992 阅读:17 留言:0更新日期:2024-12-31 18:29
本技术涉及一种湿法抛光设备过滤机构,涉及湿法抛光设备过滤技术领域,包括两个支撑板,每个所述支撑板的顶部靠近两侧处均设置有弹簧,四个所述弹簧的顶部均设置有圆形板,四个所述圆形板的顶部之间均设置有下料槽;有益效果:通过使用振动电机可以带动下料槽上下反复移动,然后通过弹簧和阻尼器可以让下料槽内部的过滤板和一号过滤口区可以先隔绝水和碎屑,然后通过排料口处的出料槽和二号过滤口区,可以让滑落的碎屑和水被二次过滤,这样可以隔绝掉水里大量的碎屑,这样可以方便水的二次循环利用,尽可能的可以防止水资源的大量浪费。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及湿法抛光设备过滤,尤其涉及一种湿法抛光设备过滤机构


技术介绍

1、湿法抛光设备,如湿式抛光机,是一种用于对工件进行抛光的设备。在工作原理上,湿式抛光机结合了机械研磨和化学反应两个方面。机械研磨是通过旋转的研磨盘和加压装置实现的,研磨盘上覆盖有高硬度的磨料,如金刚石、碳化硅等,通过旋转摩擦与工件表面接触,去除表面的不平整和氧化层。而化学反应则是通过喷洒水和研磨材料的混合物实现的,这不仅可以冷却研磨盘和工件,防止过热,还可以冲刷走磨屑和研磨粉末,保持研磨效果的稳定性。

2、但是现有技术中,现有的湿法抛光设备需要持续的加入水来进行冷却,水也可以将磨出的碎屑冲刷掉,所以水里面会含有大量的碎屑,这些含有大量碎屑的水很难进行二次的循环利用,这样就导致水资源的大量浪费。


技术实现思路

1、本技术提供了一种湿法抛光设备过滤机构,解决了以上所述的水里面会含有大量的碎屑,很难进行二次的循环利用造成水资源浪费的结构技术问题。

2、本技术解决上述技术问题的方案如下:一种湿法抛光设备过滤机构,包括两本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种湿法抛光设备过滤机构,包括两个支撑板(1),其特征在于:每个所述支撑板(1)的顶部靠近两侧处均设置有弹簧(2),四个所述弹簧(2)的顶部均设置有圆形板(3),四个所述圆形板(3)的顶部之间均设置有下料槽(4),所述下料槽(4)的内部两侧之间均设置有过滤板(5),所述过滤板(5)的顶部设置有一号过滤口区(6),所述下料槽(4)的内部两侧均设置有排料口(7),所述下料槽(4)的两侧均设置有围挡板(8),所述下料槽(4)的两侧靠近底部处均设置有出料槽(9),每个所述出料槽(9)的内部底面均设置有二号过滤口区(10),所述下料槽(4)的另两侧均设置有振动电机(11),所述下料槽(4)的底...

【技术特征摘要】

1.一种湿法抛光设备过滤机构,包括两个支撑板(1),其特征在于:每个所述支撑板(1)的顶部靠近两侧处均设置有弹簧(2),四个所述弹簧(2)的顶部均设置有圆形板(3),四个所述圆形板(3)的顶部之间均设置有下料槽(4),所述下料槽(4)的内部两侧之间均设置有过滤板(5),所述过滤板(5)的顶部设置有一号过滤口区(6),所述下料槽(4)的内部两侧均设置有排料口(7),所述下料槽(4)的两侧均设置有围挡板(8),所述下料槽(4)的两侧靠近底部处均设置有出料槽(9),每个所述出料槽(9)的内部底面均设置有二号过滤口区(10),所述下料槽(4)的另两侧均设置有振动电机(11),所述下料槽(4)的底部靠近另两侧均设置有阻尼器(12)。

2.根据权利要求1所述的一种湿法抛光设备过滤机构,其特征在于:每个所述支撑板(1)的底部之间均设置有底板(13),所述底板(13)的顶部靠...

【专利技术属性】
技术研发人员:魏建华谢俊
申请(专利权)人:青岛威尔士服饰科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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