【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微显示，特别涉及一种显示模组内的杂质处理方法及显示模组、显示装置。
技术介绍
1、硅基oled(organic light emitting diode，有机发光二极管)显示模组凭借其高分辨率、低功耗、宽广的视角和高色彩饱和度、小巧的体积和轻便的重量等特点，被广泛地应用于虚拟现实vr显示设备、增强现实ar显示设备等可穿戴设备。
2、虽然硅基oled显示模组的制造是在无尘室内进行，但是不可避免的会有周边环境杂质进入到显示模组内。这些杂质可能会在硅基oled显示模组进行图像显示时形成显示暗点，严重影响硅基oled显示模组的光学性能和用户的观看体验。
3、申请人在相关技术研究中发现，可以采用激光照射硅基oled显示模组内的杂质，利用聚集的激光光束将杂质气化的方式，来减少杂质产生的明显的显示暗点问题。然而，在申请人对上述激光照射方式减少显示模组显示暗点的技术效果进行进一步检验后发现，虽然显示模组内部杂质在激光照射作用下在一定程度上得以消散，显示模组的暗点不良问题得以缓解，然而被激光气化后的杂质依然以更小的气...
【技术保护点】
1.一种显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，包括步骤：
2.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述于所述玻璃盖板表面的预设开槽位置加工形成容槽的步骤包括：
3.如权利要求2所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述根据获得的所述坐标信息确定所述预设开槽位置的步骤之后包括：
4.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述以激光气化所述杂质的步骤之后包括：
5.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述使气化后的所述杂质转移至所述容槽内的步骤之后包括：
...【技术特征摘要】
1.一种显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，包括步骤：
2.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述于所述玻璃盖板表面的预设开槽位置加工形成容槽的步骤包括：
3.如权利要求2所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述根据获得的所述坐标信息确定所述预设开槽位置的步骤之后包括：
4.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述以激光气化所述杂质的步骤之后包括：
5.如权利要求1所述的显示模组内的杂质处理方法，其特征在于，所述使气化后的所述杂质转移至所述容槽内的步骤之后包括：
6.一种显示模组，其特征在于，所述显示模组包括：
7.如权利要求6所述的显示模组，其特征在于，所述玻璃盖板面向所述透明粘合层的一侧开设有多个所述容槽...
【专利技术属性】
技术研发人员：程家有，林昌廷，汤颖颖，任清江，
申请(专利权)人：青岛歌尔视显科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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