【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅基样品处理,尤其涉及一种硅基样品划片装置。
技术介绍
1、硅基样品的划片通常采用金刚石划片或激光划片。激光划片例如专利201621468324.9一种硅基太阳能电池片的激光划片装置,采用高能激光束对硅基划片,速度快,成本高。而采用金刚石对硅基样品进行划片时,通常沿着晶向纵横刻划出几毫米长的短线,然后沿刻线将样品裂开。这种划片方法具有快捷、方便、成本低的特点,另外,在光电子芯片采用端面光耦合的应用中,金刚石刻划方法可以提供干净、整齐的端面,实现低损耗的光耦合,这是激光切割无法替代的。
2、现有技术中,以下为金刚石划片常用方案:方案一,基于金刚石刻划笔的手动刻划,手握金刚石刻划笔,配合使用刻度尺、镊子等工具,在基片的对应位置划线;方案二,基于x、y双轴滑轨的手动刻划,将金刚石刻划笔安装在带x、y双轴滑轨的固定装置上,配合刻度尺,x、y方向移动刻划笔至规划的刻线起点,锁定x方向的移动,按压刻头,手动沿y方向单向滑动刻划笔,完成刻划;方案三,基于弹簧缓冲刻头的手动刻划,将金刚石刻头安装在弹簧中空孔中,组成弹簧缓冲刻头,然
...【技术保护点】
1.一种硅基样品划片装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述样品平台包括旋转底座、线性导轨和置物平台,所述旋转底座滑动连接在所述线性导轨上,所述置物平台设置在所述旋转底座的旋转端。
3.根据权利要求2所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述样品平台还包括泵吸组件,所述泵吸组件安装在所述置物平台上,用于吸附并固定样品。
4.根据权利要求3所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述泵吸组件包括吸盘口、气管和真空泵,所述吸盘口内嵌在所述置物平台顶部,并向下贯穿所述置物平台,所述气管设置在所述吸盘口
...【技术特征摘要】
1.一种硅基样品划片装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述样品平台包括旋转底座、线性导轨和置物平台,所述旋转底座滑动连接在所述线性导轨上,所述置物平台设置在所述旋转底座的旋转端。
3.根据权利要求2所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述样品平台还包括泵吸组件,所述泵吸组件安装在所述置物平台上,用于吸附并固定样品。
4.根据权利要求3所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述泵吸组件包括吸盘口、气管和真空泵,所述吸盘口内嵌在所述置物平台顶部,并向下贯穿所述置物平台,所述气管设置在所述吸盘口底端,并与所述真空泵连接并连通。
5.根据权利要求4所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述显微镜呈45°倾角朝向所述刻划头底端。
6.根据权利要求5所述的硅基样品划片装置,其特征在于,所述线性驱动件包括导...
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