一种基于非接触光学的塞尺检定方法及其检定装置制造方法及图纸

技术编号:43811580 阅读:43 留言:0更新日期:2024-12-27 13:27
一种基于非接触光学的塞尺检定方法及其检定装置,包括:被检塞尺设置在共焦激光位移传感器的上测量头和下测量头之间,使两测量头激光同轴进行差动测量;将标准量块放置在上测量头和下测量头中间,输入标准量块的修正值,读取上测量头和下测量头之间距离;确定塞尺片测量点,上测量头和下测量头分别读取每个塞尺片测量点中心原点的数据,移动塞尺,在每个塞尺片测量点x、y轴平面方向上测量区域范围内进行微小位移,结合上测量头和下测量头的读数值形成n个坐标,分别拟合成上、下两个平面S1、S2,并分别计算该塞尺的厚度偏差和弯曲度。本发明专利技术提供一种精度高、操作方便高效、自动化、可批量检测的基于非接触光学的塞尺检定方法及装置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于薄片检定的,特别涉及一种基于非接触光学的塞尺检定方法及其检定装置


技术介绍

1、塞尺是具有固定厚度的实物量具,主要用于间隙检测,塞尺在机械加工、汽车维修、制造业等领域都得到了广泛的应用,其准确度直接关系着运用领域中的产品质量提升,在计量
中塞尺的检定周期为半年。根据现有技术jjg 62-2017塞尺检定规程及gb/t 22523-2008塞尺对塞尺的厚度尺寸极限偏差和弯曲度的检定采用接触式测量(contactmeasurement),测量方法是采用测微仪、测长仪或壁厚千分尺等作为主要标准器进行接触式测量直接测量。以测长仪为例其测量过程首先将测长仪的球形测帽与平面测帽接触,读取测长仪的读数值作为相对零点,然后,移动测长仪的测量轴使两测量帽离开,将塞尺片放入两测量帽之间,使球形测帽与塞尺正面接触,平面测帽与塞尺反面接触;按规定的测量点分别对规定测量点读数值与相对零点数值之差即为该点的厚度值;对于标称值大于0.10mm的塞尺,还应增加反面厚度测量,测量时使球形测帽与塞尺反面接触,平面测帽与塞尺正面接触,读取测长仪数据计算塞尺片的厚度偏差和弯本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基于非接触光学的塞尺检定方法,其特征在于:包括如下步骤:

2.一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:用于实现如权利要求1所述的一种基于非接触光学的塞尺检定方法,该检定装置包括:

3.如权利要求2所述的一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:所述二维中空移动平台上还固定安装有两个高精度双轴水平仪,用于实时监控测量所述二维中空移动平台的水平度并反馈给所述下位机并进行测量结果数据修正。

4.如权利要求2所述的一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:所述夹具组件,包括:夹具底板和磁环,其中所述夹具底板为金属材料,其上并列开设多个凹槽...

【技术特征摘要】

1.一种基于非接触光学的塞尺检定方法,其特征在于:包括如下步骤:

2.一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:用于实现如权利要求1所述的一种基于非接触光学的塞尺检定方法,该检定装置包括:

3.如权利要求2所述的一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:所述二维中空移动平台上还固定安装有两个高精度双轴水平仪,用于实时监控测量所述二维中空移动平台的水平度并反馈给所述下位机并进行测量结果数据修正。

4.如权利要求2所述的一种基于非接触光学的塞尺检定装置,其特征在于:所述夹具组件,包括:夹具底板和磁环,其中所述夹具底板为金属材料,其上并列开设多个凹槽以便放入被检塞尺片和所述磁环,同时在测量部...

【专利技术属性】
技术研发人员:邓玉湖周志春陈晓丹罗秋华曾庆威郑振强龚国汉魏源
申请(专利权)人:龙岩市计量所
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1