显示设备制造技术

技术编号:43771728 阅读:28 留言:0更新日期:2024-12-24 16:11
一种显示设备,包括:基板,所述基板包括多个子像素;图案部,所述图案部具有凹入形状并且设置在多个子像素中的相邻的子像素之间;以及反射部,所述反射部设置在图案部上,其中,多个子像素中的每一个包括:发光层,所述发光层设置在基板上;以及纳米透镜部,所述纳米透镜部包括多个纳米透镜,并且被设置在发光层与基板之间并且与反射部间隔开,从而提高从发光层出射的光的光提取效率。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及一种显示图像的显示设备


技术介绍

1、与液晶显示设备不同,有机发光显示(oled)设备具有高响应速度和低功耗,并且在不需要单独的光源的情况下自发光。因此,有机发光显示设备在视角方面没有问题。结果,有机发光显示设备作为下一代平板显示设备受到关注。

2、这种显示设备通过包括插设在两个电极之间的发光层的发光器件层的发光来显示图像。

3、另一方面,因为从发光器件层出射的光中的一部分由于发光器件层与电极之间和/或基板与显示设备外部的空气层之间的界面上的全反射而未出射到外部,因此显示设备的光提取效率可能降低。


技术实现思路

1、因此,本公开涉及一种显示设备,该显示设备实质上消除了由于上述限制和缺点而导致的问题中的一个或多个。

2、更具体地,本公开提供一种从发光层出射的光的光提取效率提高的显示设备。

3、此外,本公开提供一种具有多个子像素的提高的视角的特征的显示设备。

4、本公开还提供一种具有能够通过从非发光区域提取光而进一步提高的光提取效率的显示设备本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种显示设备,包括:

2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个子像素包括发光区域和与所述发光区域相邻的非发光区域,并且

3.根据权利要求2所述的显示设备,其中,所述纳米透镜部的尺寸等于或大于所述发光区域的尺寸。

4.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个还包括像素电极,所述像素电极设置在所述发光层的下方,并且

5.根据权利要求4所述的显示设备,其中,所述多个纳米透镜不规则地形成在所述像素电极的所述上表面和所述像素电极的所述侧表面上。

6.根据权利要求4所述的显示设备,其中,所述像素电极包含铟锡氧...

【技术特征摘要】

1.一种显示设备,包括:

2.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个子像素包括发光区域和与所述发光区域相邻的非发光区域,并且

3.根据权利要求2所述的显示设备,其中,所述纳米透镜部的尺寸等于或大于所述发光区域的尺寸。

4.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个还包括像素电极,所述像素电极设置在所述发光层的下方,并且

5.根据权利要求4所述的显示设备,其中,所述多个纳米透镜不规则地形成在所述像素电极的所述上表面和所述像素电极的所述侧表面上。

6.根据权利要求4所述的显示设备,其中,所述像素电极包含铟锡氧化物,即,ito,并且

7.根据权利要求4所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个还包括:

8.根据权利要求7所述的显示设备,其中,所述外涂层的所述侧表面中的至少一个被设置为面对所述反射部。

9.根据权利要求7所述的显示设备,其中,所述图案部包括底表面和连接到所述底表面的倾斜表面,所述倾斜表面具有倾斜度,并且

10.根据权利要求1所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个包括:

11.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述基层包含铟镓锌氧化物,即igzo,并且

12.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个包括具有有源层的薄膜晶体管,并且

13.根据权利要求10所述的显示设备,其中,所述多个子像素包括发光区域以及与所述发光区域相邻的非发光区域,并且

14.根据权利要求7所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个还包括:

15.根据权利要求14所述的显示设备,其中,所述基层与所述像素电极重叠。

16.根据权利要求14所述的显示设备,其中,所述多个子像素中的每一个包括与所述缓冲层的侧表面相邻的狭缝部,并且所述缓冲层的所述侧表面连接到所述缓冲层的上表面,

17.根据权利要求14所述的显示设备,其中,所述像素电极包含铟锡氧化物,即,ito,并且

18.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:崔浩源金泰炫
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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