超高方阻非接触式镀层光学测量系统技术方案

本发明专利技术公开了一种超高方阻非接触式镀层光学测量系统，具体涉及镀层测量技术领域，包括镀膜机，镀膜机包括支撑部，支撑部的一侧通过多个支撑柱固定连接有安装板，支撑部与安装板之间设置有卷绕部与方阻测量机构。本发明专利技术通过张紧机构的设置，在镀层牵引速度加快时，第一限位辊的转动速度会同步加快，会使得进气口与出气口的进气量与出气量同步增加，使得密封仓内的气压增大，使得张紧辊在气压增大与牵引力的同步作用下增加与第一限位辊之间的距离，减少对镀层的张紧力，避免牵引速度过快加重镀层与滚筒之间的摩擦，从而能够根据镀层的牵引速度对张紧力进行自适应调节，防止镀膜材料撕裂或过度拉伸，提高镀层的均匀性与测量精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及镀层测量，更具体地说，本专利技术涉及一种超高方阻非接触式镀层光学测量系统。

技术介绍

1、镀膜机镀层方阻测量是利用两根测量辊之间的电阻和实际面积计算出来的，在现有技术中，通过对镀膜机进行改装，在膜的一侧安装红外光源发射装置，另一侧安装光线接收装置，通过红外光源发射装置发射红外光与光线接收装置接收红外光，利用镀层厚度光透过率不一样的原理，从而对镀层方阻进行测量，同时通过镀膜机控制器接收光线接收装置的信号并传输至电脑显示实际数值，并通过软件生成镀层曲线，然后再通过plc进行闭环控制，达到自动控制方阻的目的，大大提高了产品的合格率。但是镀膜机在对镀层进行牵引测量过程中，镀层的表面的可能会存在杂质，杂质会影响光线穿透，还会造成加重镀层与滚筒之间的摩擦，造成镀层与滚筒磨损，影响镀层质量与测量结果，并且，镀膜机的张紧力无法根据牵引速度进行自动调节，在牵引速度快时会加重镀层与滚筒之间的摩擦，导致镀膜材料撕裂或过度拉伸，影响镀膜的均匀性。

2、本专利技术提供一种超高方阻非接触式镀层光学测量系统，旨在解决镀层在牵引测量过程中表面存在杂质，影响镀层质本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于，包括镀膜机（1），所述镀膜机（1）包括：

2.根据权利要求1所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：每个所述转盘（33）上均开设有多个圆周等距分布的限位槽（34），每个所述限位槽（34）的内部均滑动连接有旋片（35），每个所述旋片（35）与对应所述限位槽（34）之间均连接有弹性件（36），每个所述旋片（35）均能够在对应所述弹性件（36）的支撑作用下始终与所述集气仓（31）的内壁抵触。

3.根据权利要求2所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：所述支撑部（11）与所述安装板（13）相互靠...

【技术特征摘要】

1.一种超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于，包括镀膜机（1），所述镀膜机（1）包括：

2.根据权利要求1所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：每个所述转盘（33）上均开设有多个圆周等距分布的限位槽（34），每个所述限位槽（34）的内部均滑动连接有旋片（35），每个所述旋片（35）与对应所述限位槽（34）之间均连接有弹性件（36），每个所述旋片（35）均能够在对应所述弹性件（36）的支撑作用下始终与所述集气仓（31）的内壁抵触。

3.根据权利要求2所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：所述支撑部（11）与所述安装板（13）相互靠近的一侧均固定连接有密封仓（37），两个所述密封仓（37）呈对称设置，两个所述密封仓（37）之间均密封滑动连接有活塞板（38），两个所述活塞板（38）的一侧均固定连接有活塞杆（39），两个所述活塞杆（39）延伸出所述密封仓（37）的一端固定连接有喷气仓（310）。

4.根据权利要求3所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：所述喷气仓（310）的一侧开设有呈贯穿状设置的流通槽（311），所述流通槽（311）的顶部与底部均开设有若干喷气孔（312），两个所述密封仓（37）的内部分别与两组所述喷气孔（312）相连通。

5.根据权利要求4所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：每个所述集气仓（31）的外壁均分别开设有进气口（313）与出气口（314），每个所述出气口（314）均通过气管（315）与对应所述密封仓（37）的内部连通。

6.根据权利要求5所述的超高方阻非接触式镀层光学测量系统，其特征在于：所述张紧机构（4）包括转动连接在两个所述活塞杆（39）之间的张紧辊（41），...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯江平，陆为民，叶咸富，
申请(专利权)人：浙江南洋华诚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：