像素结构及显示面板制造技术

本公开属于显示技术领域，具体涉及一种像素结构及显示面板。像素结构包括阵列功能层和像素电极层，像素电极层设置于阵列功能层的表面，像素电极层包括多个条状电极和多个填平部，条状电极之间间隔排布，各条状电极远离阵列功能层的一面平齐，填平部至少设置于相邻的两条状电极之间，填平部远离阵列功能层的一面与条状电极远离阵列功能层的一面平齐。本公开通过在相邻两条状电极之间设置填平部，并使填平部背离阵列功能层的一面与条状电极背离阵列功能层的一面平齐，以减小像素电极层背离阵列功能层的一面的地势差，并减小因地势差对液晶的倾斜角度造成影响，从而可提高显示面板的显示对比度。

【技术实现步骤摘要】

本公开属于显示，具体涉及一种像素结构及显示面板。

技术介绍

1、像素结构中的条状电极在阵列功能层表面间隔分布，从而在相邻条状电极之间形成缝隙，液晶层设于条状电极与彩膜基板之间，当显示面板在显示状态下，由于条状电极间的缝隙处与条状电极远离阵列功能层的一面之间存在地势差，在条状电极形成的地势差的影响下，液晶层受到位于高地势处的条状电极的挤压，从而导致液晶层中的液晶分子发生不同角度的倾斜，影响光线的出射，继而导致显示面板的对比度下降。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种像素结构及显示面板，能够减少像素电极层远离阵列功能层的一面形成地势差，减少对液晶分子的偏转角度造成影响，提升显示面板的显示对比度。

2、本公开提供了一种像素结构，包括：

3、阵列功能层；

4、像素电极层，设置于所述阵列功能层的表面，所述像素电极层包括多个条状电极和多个填平部，所述条状电极之间间隔排布，各所述条状电极远离所述阵列功能层的一面平齐，所述填平部至少设置于相邻的两所述条状电极之间，所述填平部远离所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种像素结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的厚度为H1，所述条状电极的厚度为H2，则满足：H2≤H1。

3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的厚度为H1，则满足：50nm≤H1≤1000nm。

4.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的宽度为W，则满足：1um≤W≤5um。

5.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述填平部的材料为氮化硅或者氧化硅。

6.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素结构包括配向层，所述...

【技术特征摘要】

1.一种像素结构，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的厚度为h1，所述条状电极的厚度为h2，则满足：h2≤h1。

3.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的厚度为h1，则满足：50nm≤h1≤1000nm。

4.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，定义所述填平部的宽度为w，则满足：1um≤w≤5um。

5.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述填平部的材料为氮化硅或者氧化硅。

6.根据权利要求1所述的像素结构，其特征在于，所述像素结构包括配向层，所述配向层位于所述像素电极层远...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁玉姣，
申请(专利权)人：长沙惠科光电有限公司，
类型：新型
国别省市：