一种清洗装置及清洗方法制造方法及图纸

技术编号:43688231 阅读:48 留言:0更新日期:2024-12-18 21:07
本发明专利技术公开了一种清洗装置及清洗方法,属于石墨烯技术领域,清洗装置包括支撑架和加液搅拌机构,支撑架上设有载具,载具上可拆卸设置有清洗容器;加液搅拌机构包括设于支撑架上的驱动模组以及设于驱动模组上的酸碱调节装置和搅拌器,所述驱动模组用于驱动所述酸碱调节装置和所述搅拌器朝向或背离所述清洗容器移动,所述酸碱调节装置用于朝所述清洗容器内添加酸性物或碱性物以调节所述清洗容器内的溶液PH值,所述搅拌器用于搅拌所述清洗容器内的溶液。本发明专利技术提供的清洗装置,可以自动清洗去除石墨烯粉体的杂质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及石墨烯,尤其涉及一种清洗装置及清洗方法


技术介绍

1、石墨烯是一种碳原子构成的单层片状结构新材料,是近年来广受关注的一种新兴材料,由于其拥有良好的电学、热学、光学、力学等特性,使其在化工、储能、电子器件、生物医药、航天航空等领域得到广泛应用。

2、目前,石墨烯粉体的杂质通常通过手工作业去除,清洗效率低,劳动强度大。因此,亟需一种清洗装置及清洗方法以解决上述技术问题。


技术实现思路

1、本专利技术的一个目的在于提供一种清洗装置,可以自动清洗去除石墨烯粉体的杂质。

2、为达此目的,本专利技术采用以下技术方案:

3、提供一种清洗装置,包括:

4、支撑架,所述支撑架上设有载具,所述载具上可拆卸设置有清洗容器;

5、加液搅拌机构,包括设于所述支撑架上的驱动模组以及设于所述驱动模组上的酸碱调节装置和搅拌器,所述驱动模组用于驱动所述酸碱调节装置和所述搅拌器朝向或背离所述清洗容器移动,所述酸碱调节装置用于朝所述清洗容器内添加酸性物或碱性物以调节所述清本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述酸碱调节装置包括设于所述驱动模组(210)上的第一注液管(221)和第二注液管(222),所述第一注液管(221)用于朝清所述洗容器(120)内加注酸性溶液,所述第二注液管(222)用于朝所述清洗容器(120)内加注碱性溶液。

3.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,所述驱动模组(210)包括:

4.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(200)还包括:

5.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(200)...

【技术特征摘要】

1.一种清洗装置,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述酸碱调节装置包括设于所述驱动模组(210)上的第一注液管(221)和第二注液管(222),所述第一注液管(221)用于朝清所述洗容器(120)内加注酸性溶液,所述第二注液管(222)用于朝所述清洗容器(120)内加注碱性溶液。

3.根据权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,所述驱动模组(210)包括:

4.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(200)还包括:

5.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(200)还包括设于所述驱动模组(210)上的ph检测器(240),所述ph检测器(240)用于检测所述清洗容器(120)内的溶液ph值。

6.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(200)还包括设于所述驱动模组(210)上的tds检测器(250),所述tds检测器(250)用于检测所述清洗容器(120)内的溶液tds值。

7.根据权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述加液搅拌机构(20...

【专利技术属性】
技术研发人员:聂宗军童旭扬潘翼鹏何鹏程诸强李浩铸
申请(专利权)人:浙江正泰电器股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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