一种替代干粒效果的石刻釉及其制备方法技术

技术编号:43673301 阅读:17 留言:0更新日期:2024-12-18 20:58
本发明专利技术涉及一种替代干粒效果的石刻釉及其制备方法,属于陶瓷釉技术领域。包括底釉、挤花墨水和石刻釉料,通过在生坯表面喷底釉釉浆生成底釉层,再通过将挤花墨水喷在底釉层表面形成图案层,再将石刻釉料通过球磨制备得到的石刻釉浆喷在图案层表面,通过高温焙烧得到具有优异耐磨性、耐腐蚀效果的石刻釉,通过本发明专利技术的工艺,可以制备得到具有深刻凹凸纹理的陶瓷表面,且防污耐腐蚀性强,相较于干粒工艺更简单且大大降低了成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷釉,涉及一种替代干粒效果的石刻釉及其制备方法


技术介绍

1、建筑陶瓷产品竞争日益激烈,消费者对陶瓷表面性能的要求越来越高,特别是针对陶瓷表面硬度、表面装饰手段、表面防滑以及表面功能化方面,其中一个重要的竞争方向则是花色品种的竞争,竞争的焦点则是产品设计和装饰材料的水平,使用干粒作为装饰的陶瓷产品应运而生。目前,针对使用干粒装饰陶瓷产品,主要采用直接铺洒干粒并且施加保护釉的组合,由于保护釉对干粒没有粘性,不能够将干粒固定,导致干粒容易脱落,需要单独进行干燥后才可以进行烧成,否则如果在入窑时砖坯中的水分过多,则在入窑烧成后将导致砖体开裂,制得的陶瓷砖的废品率高,使用性能差,且用干粒原料成本太高。

2、本专利技术一种替代干粒效果的石刻釉及制备方法,可以大大降低原料成本,且不论哪种施釉工艺都可满足干粒特性,生产工艺简单,线条清晰,立体感强,烧成范围更宽、烧后成品更耐磨耐腐蚀,提高良品率。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种替代干粒效果的石刻釉及其制备方法,所制备的石刻釉具有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种替代干粒效果的石刻釉,其特征在于,包括底釉、挤花墨水和石刻釉料,按照重量百分比计算,其中所述底釉包括如下组分:5~10%霞石、20~28%钠长石、4~8%高岭土、2~4%球土、4~8%煅烧氧化铝、12~18%石英、4~8%碳酸钡、12~20%钾长石、3%氧化锌和10~17%低温熔块;

2.根据权利要求1所述的替代干粒效果的石刻釉,其特征在于,所述低温熔块的化学成分为:Al2O3:8.58%、SiO2:46.58%、CaO:16.61%、MgO:4.45%、BaO:12.74%、NaO:4.21%、K2O:2.51%、B2O3:4.32%。

<p>3.根据权利要求...

【技术特征摘要】

1.一种替代干粒效果的石刻釉,其特征在于,包括底釉、挤花墨水和石刻釉料,按照重量百分比计算,其中所述底釉包括如下组分:5~10%霞石、20~28%钠长石、4~8%高岭土、2~4%球土、4~8%煅烧氧化铝、12~18%石英、4~8%碳酸钡、12~20%钾长石、3%氧化锌和10~17%低温熔块;

2.根据权利要求1所述的替代干粒效果的石刻釉,其特征在于,所述低温熔块的化学成分为:al2o3:8.58%、sio2:46.58%、cao:16.61%、mgo:4.45%、bao:12.74%、nao:4.21%、k2o:2.51%、b2o3:4.32%。

3.根据权利要求1所述的替代干粒效果的石刻釉,其特征在于,所述高温熔块的化学成分为:al2o3:22.58%、sio2:46.58%、cao:17.01%、mgo:0.95%、bao:1.35%、na2o:0.96%、k2o:3.39%、b2o...

【专利技术属性】
技术研发人员:彭文武彭玉昊潘镇明荣继东
申请(专利权)人:佛山市陶莹新型材料有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1