用于清洁设备的清洁基站及具有其的清洁系统技术方案

技术编号:43664302 阅读:17 留言:0更新日期:2024-12-13 12:54
本发明专利技术公开了一种用于清洁设备的清洁基站及具有其的清洁系统,清洁基站包括:基站底座,形成有清洗槽和过滤槽,过滤槽与清洗槽连通,过滤槽的底壁形成有过滤结构;收集组件,设于基站底座,用于对过滤槽内的固体污物进行收集,收集组件包括吸嘴,吸嘴可运动地位于过滤槽内。根据本发明专利技术的清洁基站,通过过滤结构可以较好地分离污水以及固体污物,便于针对不同类型的污物进行分类处理,通过收集组件可以将过滤槽内的固体污物从过滤槽内排出并集中回收,通过吸嘴可以较好地提升收集组件对过滤槽中固体污物的收集效果,可以较好地避免污物在过滤槽以及清洗槽内堆积滋生泥污或细菌,利于保证清洁基站内部的洁净度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洁电器,尤其是涉及一种用于清洁设备的清洁基站及具有其的清洁系统


技术介绍

1、随着人们生活水平的提高,自动清扫设备如清洁机器人等逐渐进入千家万户,为人们节省了大量的家务打扫的精力,并且,随着自动清洁设备的快速发展,同时具有扫地以及拖地功能的清洁机器人被越来越多用户选择,在具有扫拖功能的清洁机器人的工作过程中,通常搭配清洁基站进行拖布的清洁,以提升清洁机器人的清洁能力,并且清洁基站需要同时具备自清洁功能,但是相关技术中的清洁基站的自清洁效果不佳,导致清洗过程中产生的污物在基站内存留。


技术实现思路

1、本专利技术提出了一种用于清洁设备的清洁基站,所述清洁基站通过吸嘴可以较好地提升收集组件对过滤槽中固体污物的收集效果,利于提升过滤槽内的清洁度。

2、本专利技术还提出了一种具有上述清洁基站的清洁系统。

3、根据本专利技术实施例的用于清洁设备的清洁基站,包括:基站底座,形成有清洗槽和过滤槽,所述过滤槽与所述清洗槽连通,所述过滤槽的底壁形成有过滤结构;收集组件,设于所述基站底座本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于清洁设备的清洁基站,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述过滤槽内的固体污物适于通过所述吸嘴吸入所述收集组件,所述过滤槽的底壁低于所述清洗槽的底壁。

3.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,还包括:清洗件,所述清洗件可运动地设于所述清洗槽内。

4.根据权利要求3所述的清洁基站,其特征在于,所述清洗件可转动地设于所述清洗槽,所述吸嘴在限位位置和非限位位置之间可运动,所述清洗件在旋转过程中所扫过的区域为清洗区域,在所述限位位置,所述吸嘴的至少部分位于所述清洗区域内,在所述非限位位置,所述吸嘴位于所述清洗区域...

【技术特征摘要】

1.一种用于清洁设备的清洁基站,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述过滤槽内的固体污物适于通过所述吸嘴吸入所述收集组件,所述过滤槽的底壁低于所述清洗槽的底壁。

3.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,还包括:清洗件,所述清洗件可运动地设于所述清洗槽内。

4.根据权利要求3所述的清洁基站,其特征在于,所述清洗件可转动地设于所述清洗槽,所述吸嘴在限位位置和非限位位置之间可运动,所述清洗件在旋转过程中所扫过的区域为清洗区域,在所述限位位置,所述吸嘴的至少部分位于所述清洗区域内,在所述非限位位置,所述吸嘴位于所述清洗区域的外周侧。

5.根据权利要求3所述的清洁基站,其特征在于,在所述清洗件运动的过程中,所述清洗槽内的污物适于在所述清洗件的搅动下流入所述过滤槽内;

6.根据权利要求5所述的清洁基站,其特征在于,所述清洗件可转动地设于所述清洗槽,所述清洗件包括清洗件本体和转轴,所述清洗槽的底壁形成有转孔,所述转轴可转动地配合于所述转孔,所述清洗件本体位于所述清洗槽内;

7.根据权利要求6所述的清洁基站,其特征在于,所述清洗件在旋转过程中所扫过的区域为清洗区域,在所述第一清洗状态,所述所述吸嘴的位于所述清洗区域的部分为限位部,在所述清洗件的转动方向上,所述限位部与所述清洗件本体抵接,所述限位件的至少所述限位部的上表面不高于所述清洗件的上表面。

8.根据权利要求1所述的清洁基站,其特征在于,所述收集组件包括收集风道件、收集风机以...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐建强朱小刚张鼎孙涛
申请(专利权)人:美智纵横科技有限责任公司
类型:发明
国别省市:

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