一种制氢装置压环密封结构制造方法及图纸

技术编号:43661625 阅读:53 留言:0更新日期:2024-12-13 12:52
本发明专利技术涉及一种制氢装置压环密封结构,包括第一极板、第二极板、支撑板、密封组件、气体扩散层;所述支撑板内设有环形凹槽,所述密封组件包括密封垫、离子交换膜和密封环,密封环光滑的第二平面压接在离子交换膜和密封垫上,使密封垫在环形凹槽内发生弹性形变与支撑板压接在一起,实现电解腔体的隔绝和密封。本发明专利技术提出的密封环和密封垫将离子交换膜压接固定在支撑板的环形凹槽内,减少了离子交换膜的无活性面积,提高了离子交换膜的利用率,增强了电解腔体的气密性,在电解槽拆解时也不会轻易对离子交换膜造成破坏,且更利于电解槽的装配和后期检修。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电解制氢,更具体地说,涉及一种制氢装置压环密封结构


技术介绍

1、电解槽由槽体、阳极和阴极组成,多数用隔膜将阳极室和阴极室隔开。制氢过程中,水分子在电解槽中发生电解反应,分解为氢离子和氧离子,由于电解槽中存在的离子交换膜只允许质子(h+)通过,阻挡氢氧根离子(oh-)通过,因此产生的氢离子会向阴极移动,而氧离子则向阳极移动,最终在阴极处还原成氢气,阳极处被氧化为氧气。

2、在电解槽中,为防止阴、阳两极产物混合,避免可能发生的有害反应,基本上都用隔膜将阴、阳极室隔开。隔膜需有一定的孔隙率,能使离子通过,而不使分子或气泡通过,气体扩散层为了透水透气也具有一定的孔隙率,将气体扩散层直接压在隔膜上,因为气体扩散层的强度比较低,容易造成变形,导致电解腔体密封不严,在加压时氢气会泄漏到氧气侧,且在电解槽的后期检修中容易破坏隔膜,隔膜的利用率不高,造成隔膜的成本增加。


技术实现思路

1、本专利技术要解决的技术问题在于隔膜的利用率不高,电解腔体密封不严,导致气体泄漏,针对现有技术的上述缺陷,提供一本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种制氢装置压环密封结构,其特征在于,包括第一极板、第二极板、支撑板、密封组件和气体扩散层;所述支撑板内设有环形凹槽,所述环形凹槽内设有贯穿所述支撑板的放置通孔,所述放置通孔半径小于所述环形凹槽的內圆的半径;

2.根据权利要求1所述的压环密封结构,其特征在于,所述环形凹槽内平行于所述支撑板的平面还设有密封凹槽,所述密封凹槽包括第一密封凹槽和第二密封凹槽,所述第一密封凹槽和第二密封凹槽呈间隔设置于所述环形凹槽内。

3.根据权利要求1所述的压环密封结构,其特征在于,所述密封垫包括第一密封垫和第二密封垫,且所述第一密封垫和所述第二密封垫呈间隔分布设置于所述环形凹槽内...

【技术特征摘要】

1.一种制氢装置压环密封结构,其特征在于,包括第一极板、第二极板、支撑板、密封组件和气体扩散层;所述支撑板内设有环形凹槽,所述环形凹槽内设有贯穿所述支撑板的放置通孔,所述放置通孔半径小于所述环形凹槽的內圆的半径;

2.根据权利要求1所述的压环密封结构,其特征在于,所述环形凹槽内平行于所述支撑板的平面还设有密封凹槽,所述密封凹槽包括第一密封凹槽和第二密封凹槽,所述第一密封凹槽和第二密封凹槽呈间隔设置于所述环形凹槽内。

3.根据权利要求1所述的压环密封结构,其特征在于,所述密封垫包括第一密封垫和第二密封垫,且所述第一密封垫和所述第二密封垫呈间隔分布设置于所述环形凹槽内。

4.根据权利要求1所述的压环密封结构,其特征在于,所述第二平面为光滑的平面,用于压接所述密封垫以固定所述离子交换膜。

5.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员:管远文汪涛管海瑜曹炬
申请(专利权)人:深圳稳石氢能科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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