【技术实现步骤摘要】
技术介绍
0、背景
1、本专利技术构思涉及一种传感器设备和使用该传感器设备的半导体处理装置。
2、在使用等离子体执行半导体处理的半导体处理装置中,可能需要精确地控制在诸如晶片的处理目标上形成的等离子体的均匀性以提高产量。已经进行了各种尝试来提高等离子体的均匀性,并且已经提出了通过立即测量等离子体的均匀性来提高半导体处理效率的方法。当通过半导体处理装置的检查口(view port)来观察等离子体时,可以调节半导体处理装置的控制变量。然而,通过检查口来观察等离子体可能难以精确地确定等离子体的均匀性,因此,在实际的半导体处理期间可能无法精确地控制等离子体的均匀性。
技术实现思路
1、本专利技术构思的方面是提供一种传感器设备和使用该传感器设备的半导体处理装置,该传感器设备和使用该传感器设备的半导体处理装置通过在被引入半导体处理装置中的并且被用于分析等离子体特性的传感器设备中包括rf能量采集器、以及使用用于形成等离子体的rf能量来产生电力,能够最小化由内部电池引起的问题。<
...【技术保护点】
1.一种传感器设备,包括:
2.根据权利要求1所述的传感器设备,其中,所述RF能量采集器包括:天线,被配置为接收RF电力;整流器电路,被配置为将与所述RF电力相对应的AC电压转换为DC电压;匹配电路,连接在所述天线和所述整流器电路之间;以及存储电路,被配置为存储与所述DC电压相对应的电力。
3.根据权利要求2所述的传感器设备,其中,所述匹配电路包括匹配电容器和匹配电感器,以及
4.根据权利要求2所述的传感器设备,还包括:
5.根据权利要求4所述的传感器设备,其中,所述天线未被所述第一屏蔽膜覆盖。
6.根据权利
...【技术特征摘要】
1.一种传感器设备,包括:
2.根据权利要求1所述的传感器设备,其中,所述rf能量采集器包括:天线,被配置为接收rf电力;整流器电路,被配置为将与所述rf电力相对应的ac电压转换为dc电压;匹配电路,连接在所述天线和所述整流器电路之间;以及存储电路,被配置为存储与所述dc电压相对应的电力。
3.根据权利要求2所述的传感器设备,其中,所述匹配电路包括匹配电容器和匹配电感器,以及
4.根据权利要求2所述的传感器设备,还包括:
5.根据权利要求4所述的传感器设备,其中,所述天线未被所述第一屏蔽膜覆盖。
6.根据权利要求4所述的传感器设备,其中
7.根据权利要求4所述的传感器设备,其中,所述匹配电路、所述整流器电路和所述存储电路被所述第一屏蔽膜覆盖。
8.根据权利要求1所述的传感器设备,还包括:
9.根据权利要求8所述的传感器设备,还包括:
10.根据权利要求1所述的传感器设备,其中,所述电源单元包括电池,所述电池被配置为由所述rf能量采集器产生的所述电力充电并且被配置为向所述多个检测单元和所述控制器中的至少一个输出电源电压。
11.根据权利要求10所述的传感器设备,其中,所述电源单元包括与所述rf能量采集...
【专利技术属性】
技术研发人员:高慈远,李钟和,全兑祚,郑胤松,李在燮,印率希,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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