一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法技术

技术编号:43612717 阅读:26 留言:0更新日期:2024-12-11 14:56
本发明专利技术公开了一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法。所述制备方法包括:使至少包含模板剂、表面活性剂、硅源和催化剂的混合反应体系发生聚合反应,制得核壳结构的预聚产物;以及,对聚合反应所获反应体系进行陈化处理,并调节反应体系的pH值为2~6,然后经分离、煅烧处理,制得小粒径中空纳米二氧化硅。本发明专利技术通过反酸化离心的方法即可从聚合产物中获得小粒径中空纳米二氧化硅,省去了目前昂贵复杂的干燥工艺,同时本发明专利技术的工艺简单,效率高,可用于工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于纳米材料,具体涉及一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法


技术介绍

1、中空二氧化硅颗粒具有低密度、低折射率、物质负载包覆性能等性质,在轻量材料、绝热材料、低折减反材料、生物载体材料、绝热材料等领域广泛应用。目前大多通过模板法制备中空二氧化硅,普遍粒径在100nm以上,很少可稳定制备出小粒径中空二氧化硅,目前得以应用多在200nm~3μm范围,100nm以下难以制备,未见有所工业化。目前小粒径中空纳米二氧化硅具有极强的尺寸效应,产物不均匀且易聚集,产物较难从溶液体系中离心得到,通过其它干燥方法工艺复杂,效率低。因此,提供一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法是亟待解决问题。


技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法,以克服现有技术的不足。

2、为实现前述专利技术目的,本专利技术采用的技术方案包括:

3、本专利技术实施例提供了一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法,其包括:

4、使至少包含模板剂、表面活性剂、硅源和催化剂的混本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,具体包括:将模板剂、催化剂与混合溶剂混合,之后加入表面活性剂、硅源形成所述混合反应体系,并于20~60℃发生聚合反应,制得核壳结构的预聚产物。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述催化剂包括氨水;

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述混合反应体系的pH值为8~9;

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,具体包括:

6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于:所述酸性物质包括盐酸、醋酸、...

【技术特征摘要】

1.一种小粒径中空纳米二氧化硅的制备方法,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,具体包括:将模板剂、催化剂与混合溶剂混合,之后加入表面活性剂、硅源形成所述混合反应体系,并于20~60℃发生聚合反应,制得核壳结构的预聚产物。

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述催化剂包括氨水;

4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于:所述混合反应体系的ph值为8~9;

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,具体包括:

6.根据权利要求5所述的制备方法,其...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩长峰章婷鲁云生樊军鹏
申请(专利权)人:中国科学院宁波材料技术与工程研究所
类型:发明
国别省市:

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