【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于真空镀膜辅助设备，特别是涉及一种用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置。
技术介绍
1、真空镀膜技术，特别是物理气相沉积(pvd)技术，在现代工业中占据着举足轻重的地位。该技术通过在真空环境下将镀膜材料以气相形式沉积到基材表面，形成一层具有特定性能的薄膜。这种薄膜不仅可以改善基材的表面性能，如提高硬度、耐磨性、耐腐蚀性，还可以赋予基材新的功能，如导电性、导热性、光学性能等。因此，真空镀膜技术在汽车、航空航天、电子、光学、装饰等多个领域得到了广泛应用。然而，在镀膜过程中，零件表面的均匀性往往受到镀膜设备结构和工艺参数的影响。传统的镀膜工装在镀膜过程中可能因零件位置固定或旋转不均匀而导致镀膜厚度不均，影响产品质量，此外，与电镀不同的是，真空镀膜过程存在阴影效应，导致零件夹持端无法得到镀膜，而且在零件被夹持附近因阴影效应所镀涂层厚度低于其他区域，因此现有的真空镀膜工装不仅很难保证被镀零件表面能够完全镀上一层薄膜，而且薄膜的均匀性也无法得到保障。
技术实现思路
1、针对于上述问题，本专利...
【技术保护点】
1.一种用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，包括间隔同轴设置的上固定板和下固定板，所述上固定板和下固定板之间环向间隔设置有多根固定杆和多根传动轴，每根所述固定杆的两端分别与上固定板和下固定板固定连接，每根所述传动轴的两端分别与上固定板和下固定板转动连接；
2.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，每个所述拨片固定座的上端面均固定有一个用于与所述固定杆接触的旋转阻挡片。
3.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，所述每个所述拨片固定座的上端面均设置有多个圆柱凸起和固定插孔，每...
【技术特征摘要】
1.一种用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，包括间隔同轴设置的上固定板和下固定板，所述上固定板和下固定板之间环向间隔设置有多根固定杆和多根传动轴，每根所述固定杆的两端分别与上固定板和下固定板固定连接，每根所述传动轴的两端分别与上固定板和下固定板转动连接；
2.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，每个所述拨片固定座的上端面均固定有一个用于与所述固定杆接触的旋转阻挡片。
3.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，所述每个所述拨片固定座的上端面均设置有多个圆柱凸起和固定插孔，每个所述弹簧拨片均匹配一个所述圆柱凸起和固定插孔，弹簧拨片套均设在圆柱凸起上，弹簧拨片套的底端与固定插孔固定配合，弹簧拨片套的顶端竖直设置且与所述链轮的外轮廓接触。
4.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，每根所述下顶柱和上顶柱与所述被镀零件接触的端部均为尖端结构。
5.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，所述第一下顶柱固定盘与第二下顶柱固定盘之间以及第二下顶柱固定盘与上顶柱固定盘之间均设置有多根螺母柱。
6.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其特征在于，所述第一下顶柱固定盘与所述拨片固定座之间设置有间隙。
7.根据权利要求1所述的用于零件表面均匀真空镀膜的转架装置，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：李浩，徐小军，刘建华，朱旻昊，
申请(专利权)人：西南交通大学，
类型：发明
国别省市：
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